石阳阳
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程广贵
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张忠强
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丁建宁
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郭立强
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张伟
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凌智勇
稀有金属材料与工程
采用分子自组装方法在铝合金表面制备了3-氨基丙基三乙氧基硅烷(KH550)膜、KH550/氧化石墨烯(GO)复合薄膜.借助扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱仪(Raman)和傅里叶红外光谱仪(FTIR)表征了样品表面形貌和微结构,通过电化学工作站测试了样品腐蚀电位和腐蚀电流密度.结果表明:KH550的氨基(-NH2)与GO的羧基(-COOH)发生缩合反应,使KH550与GO成功接枝.KH550硅烷膜和KH550/GO复合薄膜与铝合金发生了化学反应,生成了Si-O-Al键,增加了薄膜粘附力;同时2种薄膜均有效提高了铝合金抗腐蚀性.
关键词:
铝合金
,
硅烷偶联剂
,
氧化石墨烯
,
分子自组装
,
抗腐蚀性
花银群
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朱爱春
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陈瑞芳
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郭立强
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.04.014
采用直流磁控溅射法,以高纯铝(99．99％)为靶材,高纯氩气(99．999％)为起辉气体,在经机械抛光的单晶 Si 衬底上制备铝纳米颗粒薄膜.利用 X 射线衍射仪(XRD)、光学薄膜测厚仪、扫描电子显微镜(SEM)和四探针测试仪分别测试了铝纳米颗粒薄膜的晶相结构、薄膜厚度、表面形貌及电阻率.XRD 衍射图谱表明此薄膜为面心立方的多晶结构,择优取向为Al(111)晶面.随溅射功率由30 W 增至300 W,铝纳米颗粒薄膜的沉积速率由3．03 nm/min 增加至20．03 nm/min；而随溅射压强由1 Pa 增加至3 Pa,沉积速率由2．95 nm/min 降低到1．66 nm/min.在溅射功率为150 W,溅射压强为1．0 Pa 条件下制备的样品具有良好的晶粒分布.随溅射功率从80 W 增大到160 W,样品电阻率由4．0×10－7Ω· m 逐渐减小到1．9×10－7Ω·m；而随溅射压强从1 Pa 增至3 Pa,样品电阻率由1．9×10－7Ω·m 增加到7．1×10－7Ω·m.
关键词:
直流磁控溅射
,
铝纳米颗粒薄膜
,
沉积速率
,
微结构
,
电阻率
郭立强
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丁建宁
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杨继昌
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程广贵
,
凌智勇
,
董玉忠
功能材料
利用等离子体化学气相沉积系统,在射频源和直流负偏压源的双重激励下,保持射频功率、反应室气压、衬底温度、硅烷与氢气混合比以及总流量不变,改变直流负偏压从50～250V,在康宁7059玻璃衬底上制备了本征氢化纳米硅薄膜.利用拉曼散射仪表征了不同直流负偏压条件下薄膜微结构特征;利用Shmadzu UV-2450型光谱仪测试了薄膜样品透射图谱.研究发现提高直流负偏压将导致晶态比、沉积速率发生变化.薄膜的光吸收系数和消光系数随波长增加呈下降趋势;不同晶态比薄膜的悬挂键和有效载流子浓度、致密程度、键畸变程度和悬挂键数目的差异,致使晶态比增加,薄膜的吸收系数、消光系数在波长为400nm附近依次增加,光学带隙值从1.96eV减小到1.66eV.
关键词:
直流负偏压
,
消光系数
,
透射光谱
,
氢化纳米硅薄膜
