梁景舒
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陈子毅
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余梦影
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江绍基
材料科学与工程学报
建立一个雕塑薄膜三维生长的蒙特卡罗模型,模拟在PVD方法下Si在Si（100）基底上沉积的生长,考虑周期性排列预结构基底的阴影效应,模拟不同预结构单元宽度、间距及不同入射角度下斜柱状雕塑薄膜的三维形貌。结果表明,在入射角和宽度一定时,存在一个最佳间宽比值使得薄膜表面粗糙度最小;当宽度大于一定数值,粗糙度随间宽比值增大而增大。在相同预结构基底下,随入射角增大,薄膜的表面粗糙度增大;而薄膜的相对密度曲线变得平缓均匀。
关键词:
雕塑薄膜
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蒙特卡罗模型
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预结构
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表面粗糙度
,
相对密度
