陈尔东
,
王聪
材料科学与工程学报
用直流磁控溅射技术在玻璃基底上沉积TiNxOy薄膜.应用XRD与SEM表征了TiNxOy,薄膜的晶化程度及表面形貌.在室温下300～900 nm的波长范围内测量了薄膜的透射光谱,并根据"包络法"理论,计算了薄膜的光学常数.结果表明,随着入射波长的增加,薄膜的折射率n先减小后再增加;消光系数k单调增加;而吸收系数变化平缓.由"包络法"和Tauc关系确定TiNxOy,薄膜的光学能隙约为2.213 eV.
关键词:
直流磁控溅射
,
TiNxOy
,
薄膜
,
光学特性
,
包络法
