李惠琴
,
陈晓勇
,
王成
,
穆继亮
,
许卓
,
杨杰
,
丑修建
,
薛晨阳
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刘俊
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.02.012
原子层沉积( ALD)是一种新型的精确表层薄膜制备技术，具有沉积面积大、薄膜均匀、膜厚纳米级可控生长、低温性等特点，适用于纳米多孔和高深宽比基底材料，可应用于三维微纳结构器件的功能薄膜材料制备，广受国内外学术界和工业界的关注。综述了ALD技术发展历史和技术原理，介绍了ALD技术在微纳器件中的应用进展，涉及半导体微纳集成电路、微纳光学器件、微纳米生物医药等高新技术领域，对ALD技术当前存在的问题进行了分析，并展望了未来发展方向。
关键词:
原子层沉积
,
薄膜技术
,
高深宽比结构
,
纳米多孔结构
,
微纳结构器件
陈晓勇
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李沈巍
,
汤思聪
,
赵兴科
,
姚自力
,
徐建建
,
向明
高分子材料科学与工程
在固定加工条件和聚丙烯(PP)牌号不变情况下吹塑制备不同配比的聚乙烯/聚丙烯(PE/PP)共混薄膜,使用光学显微镜(OM)和原子力显微镜(AFM)观察膜的表面粗糙花纹和粗糙形态并得到表面粗糙度Ra和峰密度D;由此比较共混体系和单组分体系薄膜的表面粗糙花纹及消光效果,研究PE树脂的熔体指数、支化、共聚组分及PE用量对共混薄膜表面粗糙花纹的影响,并确定聚烯烃薄膜消光性能与表面粗糙花纹的关系.
关键词:
消光膜
,
表面粗糙花纹
,
粗糙度
蔡苇
,
陈晓勇
,
符春林
,
高荣礼
,
邓小玲
,
陈刚
人工晶体学报
采用溶胶-凝胶匀胶法制备锆钛酸铅铁电薄膜,研究了前驱体影响因素(如有机溶剂、前驱单体加入顺序、添加剂)、溶胶影响因素(如溶胶浓度、pH值)、匀胶速度和退火温度对成膜质量及薄膜微结构、铁电性的影响.结果表明:采用乙二醇甲醚为溶剂对pb2+、Zr4+和Ti4+金属盐进行溶解优于乙醇和乙二醇,但由于乙二醇甲醚对硝酸锆的溶解性差,对硝酸锆应先用乙醇溶解再加入乙二醇甲醚的方法来进行溶解;以硝酸锆为Zr源配制溶胶时,只有先将Pb前驱液滴加到Ti前驱液中,然后再滴入Zr前驱液的方式才能得到澄清前驱体.将锆钛酸铅溶胶浓度和pH值分别控制在0.2～0.3 mol/L和2～3较为适宜,与此溶胶相适应的匀胶参数:转速为4000 r/min,时间为60 s.随退火温度升高,薄膜的晶化程度增加,且逐渐表现出(100)晶面择优取向,晶格常数c和四方率c/a逐渐增加,而晶格常数a逐渐减小;随退火温度升高,晶粒尺寸逐渐增大,使得剩余极化强度逐渐增加,矫顽场强逐渐减小.当退火温度为850 ℃时制备的锆钛酸铅薄膜具有均匀的晶粒、较低的表面粗糙度和最为优异的铁电性.
关键词:
锆钛酸铅
,
溶胶-凝胶法
,
铁电
陈晓勇
,
向明
高分子材料科学与工程
文中运用光学显微镜和扫描电镜分别观察了消光膜表面的织态结构和本体形貌,证实了聚烯烃消光膜表面织态结构和其本体形貌具有相似性,表面织态结构是本体形貌的一定程度的"复制".为了减小聚烯烃消光膜中各组分间的相对黏度,文中选用了一种流动性改善剂,以增加各组分的分散性和减少相畴的尺寸,由此对表面织态结构的不均匀性进行调控,从而成功解决了聚烯烃消光膜消光不均匀的质量缺陷.
关键词:
聚烯烃消光膜
,
消光均匀性
,
表面织态结构
,
本体形貌
