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组织工程载体支架的无加热沉积制造

熊卓 , 颜永年 , 张人佶 , 陈立峰 , 郑卫国

材料导报

提出采用无加热液化过程的分层沉积制造工艺制造人体组织工程载体支架.开发了采用此工艺制造组织工程载体支架的专用快速成形设备,分析了此设备的单喷头、双喷头和三喷头沉积制造过程在骨组织工程载体支架成形制造过程中的应用.

关键词: 组织工程 , 快速成形 , 载体支架

用于分离CH4/CO2疏水性SiO2膜的制备

李文秀 , 葛珂宁 , 张兵 , 陈立峰 , 张志刚

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2013.02.016

分别采用KH-570,KH-560和A-151代替部分TEOS作为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了疏水性SiO2气体分离膜,利用IR,BET,TG,SEM以及接触角测试仪等对其进行了表征,并对(0.8KH-570)SiO2膜进行了CH4/CO2气体渗透性能评价.结果表明,当A-151,KH-570和KH-560与TEOS的摩尔比均为0.8时,膜的接触角分别从28.6°增大到97.8,94.2°和90.7°.膜样品的疏水性增强,修饰后的膜孔径分布更加狭窄,平均孔径减小,抵抗水蒸汽的能力明显增强;膜层无开裂,表面完整.其中,KH-570修饰的膜性能较好,在n(KH-570)/n(TEOS)=0.8时,压力为30kPa的条件下,(0.8KH-570)SiO2膜对CH4/CO2的分离因子为2.13,大于纯SiO2膜的分离因子(1.58)和努森扩散理论的分离因子(1.67),分离效果较好.

关键词: 溶胶-凝胶法 , 疏水性 , 无开裂 , 分离因子 , 努森扩散

纳米线堆积的铁硅球体催化剂用于费托合成

陈立峰 , 宋卫林 , 张亚红 , 杨为民 , 吴良华 , 唐颐

催化学报 doi:10.1016/S1872-2067(14)60135-2

以共沉淀法所制的工业铁硅球体催化剂(indus-FS)为原料,用改进的有机胺蒸气相传输转化法,得到了负载高分散铁的交织氧化硅纳米线球体催化剂(NW-FS),并用于费托合成反应.在所制纳米线催化剂中,原料催化剂中氧化硅在氧化铁诱导下成功地转变成纳米线交织微球载体,而氧化铁组分则高度分散在氧化硅纳米线上.用扫描电镜、透射电镜、X射线衍射、低温氮吸附、X射线光电子能谱和程序升温还原等方法对所得纳米线催化剂进行了表征.在费托合成中,纳米线铁硅催化剂由于其特殊的堆积结构所导致的低的扩散阻力和高的铁活性组分分散度,提高了低碳烯烃尤其是乙烯的选择性.纳米线铁硅催化剂上低碳产物(C2-C4)的烯烷比为3.3,高于母体工业催化剂的1.9.

关键词: 纳米线 , 纳米金属催化剂 , 费托合成 , 煤化工 , 二次反应

二氧化硅膜的制备及分离CH4/CO2气体的研究

张志刚 , 张冰 , 陈立峰 , 李文秀

硅酸盐通报

以正硅酸乙酯为前驱体,通过溶胶-凝胶法,采用多分离层镀膜工艺制备了用于分离CH4/CO2气体二氧化硅无机膜.通过TG-DSC、粒度分析仪及SEM对二氧化硅膜进行表征,结果表明分别利用HNO3、EtOH及DMF作为催化剂、助溶剂及添加剂可制备出表面性能较好的二氧化硅膜;利用多分离层镀膜工艺制备的二氧化硅膜,在0.025MPa下,对CH4/CO2气体的分离因子高达1.73,其效果明显高于利用单一溶胶涂膜的分离因子1.6,有效的提高了二氧化硅膜对气体的分离能力.

关键词: 分离因子 , 多分离层 , 二氧化硅膜

KH-570修饰的SiO_2膜制备及CH_4/CO_2的分离

李文秀 , 张兵 , 陈立峰 , 张冰 , 张志刚

功能材料

采用KH-570代替部分TEOS为前驱物,共水解缩聚反应制得疏水性SiO2膜,通过IR、DTG、SEM、接触角测试仪等手段对KH-570修饰后的SiO2膜进行表征,并对CH4和CO2渗透和分离进行研究。实验结果表明,修饰后(0.8KH-570)SiO2膜接触角达到94.2°,红外光谱分析表明修饰后SiO2膜疏水性增强;(0.8KH-570)SiO2膜具有完整性及在400℃水热稳定性;压差30kPa,分离因子随涂膜次数增加先增大后减小,涂膜5次达最大值2.13,超越了努森扩散理论分离因子1.66,此时分离效果好;对于涂膜5次的SiO2膜,CH4渗透通量随压差增加呈现非线性微增趋势,CH4/CO2分离因子几乎不变。

关键词: SiO2膜 , 接触角 , 疏水性 , 气体渗透 , 分离因子

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