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宽带隙、高折射率聚偏四氟乙烯/TiO2-ZrO2光学膜的制备和表征

张裕卿 , 赵丽丽 , 许世龙 , 张超 , 陈笑迎 , 宋力昕

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2013.12747

以氧氯化锆(ZrOCl2.8H2O)为锆源,钛酸丁酯(Ti(OBu)4)为钛源,聚偏氟乙烯(PVDF)为有机添加剂,采用溶胶-凝胶法在K9玻璃基片上制备PVDF/TiO2-ZrO2光学膜,提高了ZrO2-TiO2光学膜的综合性能.然后采用SEM、FT-IR、接触角以及紫外/可见/近红外透射光谱等手段对PVDF/TiO2-ZrO2光学膜的组成、光学性能和抗激光损伤阈值进行了研究.SEM测试表明,在K9玻璃基片上制备了光学膜.PVDF的添加导致水与薄膜的接触角增大.ZrO2-TiO2光学膜的光学带隙随ZrO2含量的增加而略微增大,PVDF/ZrO2(50mol%)-TiO2薄膜的光学带隙随PVDF质量分数的增加而增大.另外,ZrO2-TiO2光学膜的折射率随ZrO2摩尔分数的减小而增大,PVDF/ZrO2(50mol%)-TiO2膜的折射率随PVDF质量分数的增加而增大.

关键词: ZrO2 , TiO2 , PVDF , 光学膜

氟化镁基底上HfO2中间层对Al2O3薄膜微观组织和力学性能的影响

宋博 , 赵丽丽 , 陈笑迎 , 游丽君 , 宋力昕

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160030

采用电子束蒸镀技术在氟化镁基底上制备了单层 Al2O3薄膜和含有 HfO2中间层的 HfO2/Al2O3双层薄膜。在空气中对所制备的薄膜进行1 h 600℃的退火处理。通过掠入角X射线衍射仪(GIXRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、纳米压痕和划痕法对薄膜的微观结构、红外透过率和力学性能进行了表征。结果表明:退火处理后HfO2/Al2O3双层薄膜中形成了一层树枝状的新层,这种新层的硬度大于17.5 GPa。这种高硬度的新层能够保护氟化镁基底不被划伤。从GIXRD图谱中只能找到单斜相HfO2的衍射峰,而Al2O3薄膜仍然保持非晶态。从这些结果中可以推断出HfO2从非晶态向单斜相的转变促进了这种树枝状新层的产生,也正是这种新层提高了保护薄膜的力学性能。

关键词: HfO2中间层 , Al2O3薄膜 , 微观组织 , 力学性能 , 氟化镁基底

高反射率抗激光烧蚀涂层的制备及数值模拟研究

邹洋 , 赵丽丽 , 游丽君 , 陈笑迎 , 宋力昕

无机材料学报 doi:10.15541/jim20150633

以TiO2为颜料,硅酸钾为粘结剂(以下简称KS-T),采用空气喷涂的方法,在铝基底上制备了一种抗激光烧蚀涂层.研究了粉体粒径大小、固含量、涂层厚度等因素对涂层反射率的影响,获得了1064 nm激光波段下反射率达到96.8%的KS-T涂层.基于热传导方程建立三维有限元模型模拟材料的瞬态温度场分布,测量激光辐照过程中铝基底的背底温度变化,与模拟结果相比较,发现KS-T涂层可以有效地保护基底不被激光烧蚀.模拟结果显示,在辐照一段时间后,样品的反射率出现了下降的现象,分析了反射率下降的可能原因;计算结果还表明考虑界面热阻(ITR)后,涂层/基底界面处出现一个明显的温降,阻止热流向基底的传输,从而使铝基底保持一个较低的温度.

关键词: 抗激光烧蚀涂层 , 高反射率 , 有限元模型 , 界面热阻

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