郭世海
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张羊换
,
陈自新
,
李长生
,
王国清
,
王新林
金属功能材料
doi:10.3969/j.issn.1005-8192.2006.01.003
本文采用直流磁控溅射的方法,分别在Si、Cu和NaCl基底上沉积了Ni-Mn-Ga薄膜,研究了不同基底、不同溅射条件和热处理对薄膜成分、组织形貌及结构的影响.结果表明,当溅射功率为22.5W,靶基距为40mm,溅射氩气压为0.1Pa时为最佳工艺参数.Si基片上薄膜比较致密均匀,Cu基片上薄膜则较为疏松,NaCl基片上薄膜表面分布着团簇颗粒,但三种薄膜均可见明显的岛状结构,表明薄膜的形成为核生长型机制.热处理前的薄膜具有部分非晶存在.
关键词:
Ni-Mn-Ga
,
薄膜
,
形状记忆合金
,
磁控溅射
郭世海
,
张羊换
,
陈自新
,
李长生
,
王国清
,
王新林
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.02.006
采用直流磁控溅射的方法,在NaCl基底上沉积了Ni-Mn-Ga薄膜,对薄膜进行了形貌观察、微区成分及结构分析,并测量了薄膜的磁致应变.结果表明,薄膜表面可见大小不一的团簇颗粒,具有明显的岛状结构,表明Ni-Mn-Ga薄膜的形成为典型的核生长型机制.热处理前的薄膜具有部分非晶存在,热处理后薄膜晶化为多晶形态.无约束薄膜在磁场下呈现负的磁致应变,在1.3T磁场下,其最大应变值可达-0.008%,并且可以完全恢复.
关键词:
Ni-Mn-Ga
,
形状记忆合金
,
薄膜
,
磁致应变
陈自新
,
李长生
,
郭世海
材料导报
铁磁形状记忆合金(FSMA)是一种新型智能材料,Ni-Mn-Ga合金是这种材料的典型代表.使用直流磁控溅射方法在NaCl晶片上制备出Ni-Mn-Ga薄膜,并对影响其制备的主要参数--溅射功率进行了探讨.通过对Ni-Mn-Ga薄膜的成分和薄膜表面性质的分析,得知22.5W为其制备的最佳功率.
关键词:
铁磁形状记忆合金
,
Ni-Mn-Ga
,
直流磁控溅射
,
薄膜
