宋斌斌
,
于涛
,
张传升
,
李博研
,
李新连
,
郭凯
,
左宁
,
赵树利
,
陈颉
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.16.008
采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1～1.0Pa下制备了金属Mo膜.用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射(XRD)研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌.结果表明,溅射气压升高,表面颗粒由细长变得圆润,均方根粗糙度升高,其值介于1.32～4.81 nm之间;Mo膜的晶粒尺寸随气压的升高而降低,其值介于27.2～11.7 nm之间;溅射气压为0.2 Pa和0.3 Pa时制备的Mo膜显现为张应力;将双层Mo背电极表面制备0.7 Pa的Mo层后,表面更加圆润,孔隙增多.
关键词:
磁控溅射
,
CIGS
,
Mo背电极
,
溅射气压
,
形貌结构
汤洋
,
赵颖
,
张增光
,
陈颉
材料研究学报
用水热法在溶解有Zn(CH3COO)2与C6H12N4的溶液中添加NH4NO3与Al(NO3)3制备了ZnO纳米柱阵列.结果表明,添加在溶液中的NH4NO3降低了制备出的ZnO纳米柱的缺陷态密度,减小了其内部的非辐射复合中心的密度.ZnO纳米柱内部的非辐射复合的减弱导致其斯托克斯位移降低49％,从而得到高质量的ZnO纳米柱阵列.控制NH4NO3与Al(NO3)3在溶液中的添加可在3.36-3.57 eV范围内调控ZnO纳米柱的光学带隙宽度.Al的引入使ZnO纳米柱内部载流子的浓度提高,在布尔斯坦-莫斯效应作用下纳米柱的光学带隙蓝移至3.56-3.57 eV.
关键词:
无机非金属材料
,
光学带隙
,
水热法
,
纳米柱
