吴志方
,
况嘉伦
,
石俊
,
何大亮
,
方智
,
雷浩
,
程伊婷
,
吴润
材料导报
以武钢CSP工艺生产的DC04钢板作为冷轧基材,经冷轧后,在实验室模拟现场工艺进行了退火,利用光学显微镜和电子背散射衍射技术分析了退火过程中的组织和织构的演变.结果表明,DC04冷轧薄板在710℃退火3h后,再结晶基本完成,并且晶粒尺寸较均匀.在710℃退火时,随着退火时间的延长,小角度晶界所占比例逐渐减小,大角度晶界所占比例逐渐增大.在710℃退火12 h后,有较强的γ取向线和较弱的α取向线,即获得了理想的退火织构.
关键词:
CSP工艺
,
冷轧薄板
,
织构
,
再结晶
宋真
,
郝志显
,
谭大力
,
雷浩
,
包信和
,
孙文声
,
闵恩泽
催化学报
采用淬冷法,通过改变冷却铜辊的转速,得到了一系列具有不同非晶化度的Ni80P20合金材料.以乙炔加氢为探针反应的催化研究结果表明,合金的催化活性随非晶化程度的增加而增加,同时,非晶态合金具有比相应的晶态合金明显优良的催化稳定性.XRD和AES深度分析显示:在氧化-还原活化处理过程中,相对晶态合金而言,非晶态合金显示明显的"惰性",活化后的表面上含有较多的对加氢反应有促进作用的金属镍和氧化镍相互作用的结构.
关键词:
非晶态材料
,
镍磷合金
,
催化活性
,
乙炔
,
加氢
周烈兴
,
钱天才
,
王绍华
,
雷浩
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2011.02.008
对微波活化处理废触媒制备的活性炭进行了微结构分析,发现活性炭具有孔隙发达,微孔贯穿性好的结构,孔隙中负载了少量的具有催化作用的氧化锌.采用光离子化气相色谱法测定了20℃、30℃和40℃活性炭对苯的吸附等温线,并用Langmuir方程进行了数据拟合,且适合于该方程.同时计算了平均吸附热(△H),吸附自由能(△G),吸附熵(△S).结果表明所研究的活性炭为负载氧化锌活性炭,孔容大,对苯具有极强的吸附性能,而且在常温下不容易脱附.
关键词:
负载活性炭
,
苯
,
吸附
,
热力学
李立新
,
雷浩
,
方燕子
,
袁翔
,
苏雨萌
,
皮大光
钢铁钒钛
doi:10.7513/j.issn.1004-7638.2013.02.019
运用正交设计的试验方法,在高温箱式电阻炉内模拟DC03钢高温短时连续退火和低温长时罩式退火工艺条件,采用后插法计算出DC03钢冷轧后各种退火条件下的静态再结晶软化率,研究其与变形程度、退火温度和退火时间的关系.选用Avrami方程建立模型并与热加工两道次间的静态再结晶动力学模型作对比.研究结果表明:退火温度对热加工两道次间的静态再结晶率影响程度比对冷轧后的退火静态再结晶率影响程度大,而保温时间对冷轧后的退火静态再结晶率影响程度比对热加工两道次间的静态再结晶率影响程度大.
关键词:
DC03钢
,
高温短时退火
,
低温长时退火
,
静态再结晶
齐东丽
,
雷浩
,
范迪
,
裴志亮
,
宫骏
,
孙超
金属学报
doi:10.11900/0412.1961.2014.00549
采用直流反应磁控溅射技术在M2高速钢基片上制备了不同Mo含量的CrMoN复合涂层,研究了Mo含量的变化对CrMoN复合涂层成分、相结构、化学价态、截面形貌、显微硬度和摩擦性能等的影响.结果表明,随着Mo含量的增加,CrMoN复合涂层的相结构先转变为以fcc-CrN相为基础的(Cr,Mo)N置换式固溶体,后转变为以fcc-γ-Mo2N相为主的混合相,当Mo含量为69.3％(原子分数)时,伴有少量的bcc-Mo相生成;CrMoN复合涂层的显微硬度先增加后降低,在Mo含量为45.4％时具有最高值;当Mo含量大于45.4％时,在与对磨副摩擦过程中会生成大量的MoO3相,降低了摩擦系数和磨损率.
关键词:
CrMoN复合涂层
,
磁控溅射
,
显微硬度
,
摩擦系数
范迪
,
雷浩
,
郭朝乾
,
宫骏
,
孙超
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.024
目的 研究调制周期对磁控溅射WB2/CrN多层膜结构及性能的影响.方法 通过双靶直流磁控溅射法,在硅片、石英玻璃片及不锈钢上,制备AlB2型WB2薄膜与CrN薄膜及其多层复合薄膜,采用X射线衍射及扫描电子显微镜对其相结构及形貌进行观察和分析,使用维氏显微硬度仪及划痕仪对多层膜的硬度及膜基结合力进行研究.结果 磁控溅射WB2/CrN多层薄膜呈现出柱状生长趋势,且层状结构明显,仅当调制周期大于317 nm时,多层膜中才出现WB2晶体的衍射峰.结论 多层膜中的WB2薄膜在本实验条件下的临界结晶厚度大于150 nm.随着调制周期的减小,CrN层生长取向发生由(200)晶面向多晶面的转变,WB2层生长取向由(101)晶面向(001)晶面转变.多层膜硬度随调制周期的减小大体呈下降趋势,在调制周期为317 nm时达到最大值.结合力变化趋势与硬度相反,CrN层及多层界面有助于复合薄膜膜基结合强度的提高.
关键词:
多层膜
,
调制周期
,
磁控溅射
,
硬度
,
结合力
,
WB2
