郑洋
,
刘晰
,
曲炳郡
,
韦丹
,
魏福林
,
任天令
,
刘理天
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.03.016
磁控溅射是一种能够在低温条件下生长大面积优质薄膜的工艺,广泛用在磁传感器和存储等领域.本文研究了在巨磁电阻(Giant Magneto Resistance:GMR)多层膜周围溅射接触紧密的CoCrPt硬磁膜的工艺,使得硬磁膜能为GMR提供磁场偏置,以解决小尺度GMR的噪声问题.研究中采用了1:5的BHF溶液的湿法刻蚀工艺,刻蚀速率为25 A/s,实现了刻蚀深度的精确控制,解决了薄膜对准的问题.同时改进了CoCrPt薄膜溅射的种子层,使得CoCrPt能在常温下溅射得到很好的晶体结构.这种工艺为基于GMR的小尺寸器件设计提供了可能性.
关键词:
巨磁电阻
,
磁控溅射
,
湿法刻蚀
,
粗糙度
,
种子层
李洪佳
,
蔡吴鹏
,
韦丹
金属功能材料
目前磁记录技术的发展遇到了瓶颈,记录密度达到了极限.继续提高记录密度需要采用具有超高磁晶各向异性的记录介质材料,但这些材料的矫顽力巨大,使得数据的写入困难.为了摆脱这种困境,科研工作者提出了几种新型的磁记录介质的概念如倾斜介质、梯度介质、渗透垂直介质,并开展了相应的研究.本文综述了这几种新型的磁记录介质的研究进展.
关键词:
磁记录
,
倾斜介质
,
梯度介质
,
渗透垂直介质
