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强流脉冲电子束作用下单晶硅表层缺陷与结构变化

王雪涛 , 关庆丰 , 顾倩倩 , 彭冬晋 , 李艳 , 陈波

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.01313

为了研究超快变形诱发的非金属材料的微观结构状态, 利用强流脉冲电子束(HCPEB)技术对单晶硅进行了辐照处理, 并用透射电镜对电子束诱发的表层微观结构进行了分析. 实验结果表明, HCPEB辐照后单晶Si表层形成了丰富的缺陷结构, 互相平行的螺位错和外禀层错是辐照后最为典型的缺陷结构; 同时HCPEB辐照还诱发了密度很高的包括位错圈和SFT在内空位簇缺陷, 幅值极大和应变速率极高的表面应力导致的{111}面整体位移可能是大量空位簇缺陷形成的根本原因. 此外, HCPEB处理可在单晶Si表面形成纳米和非晶混合结构.

关键词: 强流脉冲电子束 , single-crystal silicon , structure defects , vacancy clusters

强流脉冲电子束作用下单晶硅表层缺陷与结构变化

王雪涛 , 关庆丰 , 顾倩倩 , 彭冬晋 , 李艳 , 陈波

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.01313

为了研究超快变形诱发的非金属材料的微观结构状态,利用强流脉冲电子束(HCPEB)技术对单晶硅进行了辐照处理,并用透射电镜对电子束诱发的表层微观结构进行了分析.实验结果表明,HCPEB辐照后单晶Si表层形成了丰富的缺陷结构,互相平行的螺何错和外禀层错是辐照后最为典型的缺陷结构;同时HCPEB辐照还诱发了密度很高的包括位错圈和SFT在内空位簇缺陷,幅值极大和应变速率极高的表面应力导致的{111}面整体位移可能是大量空位簇缺陷形成的根本原因.此外,HCPEB处理可在单晶Si表面形成纳米和非品混合结构.

关键词: 强流脉冲电子束 , 单晶硅 , 结构缺陷 , 空位簇

氯化聚氯乙烯膜微观结构及其性能影响因素的研究

吕晓宁 , 陈云逸 , 王军 , 顾倩倩 , 刘倩文

膜科学与技术 doi:10.16159/j.cnki.issn1007-8924.2016.03.009

采用非溶剂致相分离法制备了氯化聚氯乙烯(CPVC)膜,考察了铸膜液的聚合物含量与温度、凝胶浴温度与凝胶浴中溶剂含量对CPVC膜微观结构及其性能影响.结果表明,铸膜液的聚合物含量与温度、凝胶浴中溶剂质量分数在60%以下及凝胶浴温度为20℃以下时,CPVC膜的断面均为致密皮层、指状孔及大孔支撑层构成的非对称膜;凝胶浴中溶剂质量分数达到80%及凝胶浴温度在30℃以上时,CPVC膜断面变为多孔皮层和海绵状结构构成的非对称膜,在所研究范围内,CPVC膜对牛血清蛋白(BSA)的截留率在87%以上,膜的水通量范围为111~1 287.89 L/(m2·h).与文献比较,CPVC膜的过滤性能及机械性能均远优于聚氯乙烯(PVC)膜.

关键词: 氯化聚氯乙烯 , 微观结构 , 膜性能 , 铸膜工艺条件

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