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厚度对室温沉积ZnO:Al薄膜光电特性的影响

孟超 , 王文文 , 顾宝霞 , 曹晔 , 刁训刚 , 康明生

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2009.06.018

利用直流磁控溅射法, 在室温玻璃衬底上制备了具有良好附着性的多晶ZnO∶ Al(ZAO)薄膜. 比较了室温下获得的薄膜与衬底加热条件下所得薄膜的结晶程度, 研究了厚度对室温条件下制备的ZAO薄膜表面形貌、电学性能及紫外-可见-近红外光区透光性的影响. 结果表明, 室温条件下制备的ZAO薄膜也具有(002)面择优取向, 随着膜厚的增加薄膜晶粒化程度提高, 载流子浓度和迁移率增大, 电阻率下降, 薄膜在紫外光区的吸收边发生红移, 在可见光区的平均透过率降低, 在近红外光区的透过率随厚度的增加而减小. 厚度为1200 nm的ZAO薄膜具有最佳光电综合性能, 其电阻率为7.315×10~(-4) Ω·cm, 方块电阻为6.1 Ω/□, 可见光区平均透过率达到82%, 波长为550 nm处的透过率为87%.

关键词: 直流磁控溅射 , ZnO , Al薄膜 , 透明导电薄膜 , 光电特性

Co基非晶软磁合金的制备与晶化动力学行为研究

郝雷 , 刁训刚 , 顾宝霞 , 张鲁豫 , 王天民

稀有金属材料与工程

采用旋铸急冷工艺在大气环境中制备出Co6.85Fe4Si10B17.5非晶合金带材.XRD分析表明:样品为完全非晶.用DiamondTG/DTA差热分析仪在高纯氩气保护下测量了非晶薄带的等温晶化动力学曲线.采用JMA方程计算出了合金的晶化动力学参数,在不同的晶化温度下,Avrami指数的值在2.11~2.58之间,晶化激活能Ec为113.67 kJ/mol.Co6.85Fe4Si10B17.5非晶合金的晶化方式是初晶型(761、791、803 K)和共晶型晶化(813 K),合金的晶化百分比与退火时间的关系曲线均为S型曲线.

关键词: 非晶合金 , 热分析 , 晶化动力学 , 晶化激活能

多弧离子镀Cr/Cr2O3薄膜红外及可见光谱特性

向远博 , 刁训刚 , 郝雷 , 顾宝霞

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2008.05.010

采用多弧离子镀制备了具有不同色彩的Cr/Cr2O3薄膜,利用紫外-可见光分光光度计研究了薄膜在可见和红外波段的光谱特性,利用SEM进行薄膜表面结构和形貌的分析,利用四探针测阻仪测试了样品的方块电阻,利用红外发射率测量仪测试了样品的红外发射率.结果表明:Cr/Cr2O3薄膜具有丰富的色彩,在可见光区有明显的反射峰,可见光区光谱特性主要受膜厚的影响,方块电阻随膜厚增加而有变大,样品的红外发射率主要取决于金属层,平均红外发射率最小降至0.371.

关键词: 多弧离子镀 , 光谱特性 , 氧化铬 , 红外发射率

红外可见兼容隐身薄膜的制备与性能

郝雷 , 刁训刚 , 顾宝霞 , 王天民

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2008.02.007

采用多弧离子镀制备了多彩Al/TiNO(掺氮TiO2)薄膜,利用SEM观察了薄膜的表面、断面形貌,并测量了其膜厚.采用XRD研究了薄膜的相结构.利用紫外一可见分光光度计研究了TiNO膜的可见光谱特性,用红外比辐射率测量仪测量了样品的红外发射率.结果表明:在不改变Al箔在8~14 um波段低红外发射率的情况下,实现了其物理着色.所得薄膜为锐钛矿型TiO2结构,薄膜表面平整、致密,结合力较好.TiNO薄膜呈明显柱状生长,薄膜试样表面未出现明显缺陷,薄膜表面致密,柱状颗粒生长完好.TiNO薄膜的沉积速率达120 nm/min.

关键词: 低红外发射率 , 多弧离子镀 , 二氧化钛 , 氮掺杂 , 光学性能

低红外发射率迷彩填料的制备及光谱特性

顾宝霞 , 刁训刚 , 郝雷

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2008.03.015

采用化学液相沉淀法获得了具有核层结构的 Al/ SiO2/Fe2O3颜料,在基本不改变Al粉在8~14靘波段红外发射率的情况下,实现了片状Al粉的物理着色.分析了正硅酸乙酯(TEOS)水解一缩聚反应及氯化铁水解反应机理,并以此制备了Al/SiO2/Fe2O3三层结构的复合粒子,研究了包覆的工艺条件.通过扫描电镜、能谱、X射线衍射、紫外-可见光吸收谱等方法对包膜后的片状Al粉粒子进行了分析与表征.实验结果表明,通过液相沉积法在Al粉表面成功包覆了SiO2/Fe2O3薄膜,得到了低红外发射率的迷彩Al粉颜料.

关键词: 片状Al粉 , 表面包覆 , 溶胶-凝胶 , 低发射率 , 物理着色

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