王明娥
,
巩水利
,
马国佳
,
刘星
,
张林
,
王达望
,
陆文琪
,
董闯
稀有金属材料与工程
采用温度梯度法,通过MW-ECR射频磁控溅射在硅片基底上制备了六方和立方混合的氮化硼薄膜.研究了薄膜的键结构,化学成分和力学性能.结果显示,对于氮化硼立方相的出现存在温度阈值,薄膜的硬度随沉积温度提高而提高.相对于传统薄膜制备方法,温度梯度方法具有更高的效率.
关键词:
氮化硼薄膜
,
溅射
,
温度梯度法
,
硬度
马国佳
,
张华芳
,
武洪臣
,
蒋艳莉
,
彭丽平
,
沈季雄
,
成来飞
复合材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-3851.2005.03.012
通过等离子体源离子注入法(PSII),对带有SiC涂层的C纤维增强SiC基(SiC-C/SiC)复合材料进行硼离子注入,研究了硼离子注入对样品抗氧化性能的影响.通过俄歇电子能谱检测分析了样品成份的深度分布.在空气中1300℃的高温条件下进行了氧化实验.通过XRD和扫描电镜分别对样品的化学组成和表面形貌进行了表征,对样品的力学性能进行了测试.结果表明,对SiC-C/SiC复合材料注入硼有助于提高其抗氧化性能.经过离子注入试样的弯曲性能与未经离子注入试样相比变化很小.
关键词:
SiC-C/SiC
,
离子注入
,
复合材料
,
等离子体源
张林
,
林国强
,
马国佳
,
魏科科
,
段仲伟
稀有金属材料与工程
采用MEVVA离子源复合磁控溅射沉积系统,在钛合金Ti6Al4V基体上制备Ti掺杂DLC薄膜,研究Ti掺杂对DLC薄膜疏水性能的影响.通过X射线能谱仪(EDS)、X射线光电子谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的组分、化学键以及表面形貌进行分析;通过测量静态接触角分析薄膜的润湿性并计算薄膜的表面能.结果表明:Ti掺杂DLC膜明显提高疏水性能,水接触角最高达到105°.薄膜中sp2C杂化键组分增加以及表面形成Ti-O键,是导致薄膜表面能降低的重要因素.
关键词:
类金刚石膜
,
掺杂
,
接触角
,
表面能
刘星
,
马国佳
,
孙刚
,
段玉平
,
刘顺华
稀有金属材料与工程
采用微波增强的反应磁控溅射和离子注入法以及两者相结合的工艺制备了TaN系薄膜.通过X射线衍射(XRD)分析了薄膜的晶体结构,用微磨损仪和白光轮廓仪对样品的摩擦系数和磨损情况进行了检测和分析.结果表明,Ta离子注入与TaN沉积相结合的方式制备的薄膜耐磨损性能较好,其中Ta离子注入后沉积的Ta/TaN多层膜耐磨性能最好.说明此种工艺有效整合了两种工艺的优点,有利于薄膜力学性能的改善.
关键词:
反应磁控溅射
,
离子注入
,
TaN
,
磨损性能
马国佳
,
吴志猛
,
李新
,
邓新绿
,
徐军
,
唐祯安
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.05.017
用等离子体源注入(PSII)在Si(100)上制备类金刚石膜,放电气体采用CH4, 用微波电子回旋共振(ECR)产生等离子体.将-20～-30 kV的高压加在衬底上,来提高离子的能量.通过Raman光谱和FT-IR光谱检测了类金刚石膜的化学组成及状态,并对其机械性能和表面形貌进行了检测.结果显示,硅片硬度和摩擦因数得到了改善,用PSII能够制备出性能优良的膜,可以将其应用到微电子器件(MEMS)上去.
关键词:
类金刚石
,
等离子源注入
,
化学键
马国佳
,
张晓囡
,
武洪臣
,
张华芳
,
彭丽平
稀有金属材料与工程
采用磁控溅射沉积万法在钛锚合金基体上制备有Ti与无Ti的类金刚石(DLC)膜,全方位离子注入(PSlI)技术被用来在膜与基体之间形成过渡层,提高膜基界面的附着力.通过X射线光电子能谱、纳米压痕、摩擦磨损等表征手段比较2种薄膜的化学组成、微结构特征和力学性能.结果表明:掺Ti α-C:H膜是含有TiC纳米晶粒的复合膜结构,其中TiC晶粒的大小约是5 nm,掺Ti α-C:H膜的力学性能得到明显改善,硬度被提高到24 GPa左右,而且结合力也明显得到提高.在大气中对样品进行热处理后,再进行摩擦磨损试验,结果表明 Ti 掺杂改善了α-C:H膜的热稳足性.
关键词:
α-C:H膜
,
类金刚石
,
PSII
,
Ti掺杂
王明娥
,
马国佳
,
刘星
,
董闯
稀有金属材料与工程
采用阴极弧沉积、中频磁控溅射及二者的复合技术在GCr15基底上制备了TiN涂层.通过扫描电镜、XRD谱、微米划痕测试、硬度测试以及摩擦磨损测试对涂层的组织结构和力学性能进行了表征及对比.结果表明,采用复合磁控阴极弧技术制备的TiN涂层具有较好的综合性能,如较光滑的表面、较高的结合力和硬度,故磨损率较低.
关键词:
物理气相沉积
,
TiN涂层
,
摩擦磨损
,
复合沉积
