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超细SiO2的化学沉淀法制备及其原位改性

林金辉 , 王美平 , 魏双凤

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2007.04.046

以天然优质粉石英自制的Na2O3.1SiO2为原料、硅烷偶联剂KH550为改性剂、HCl为沉淀剂、聚乙二醇为表面活性剂,采用化学沉淀法制备了超细且分散性好的改性SiO2粉体.研究了硅烷偶联剂KH550对溶液中生成的二氧化硅粒子表面原位改性的影响及机理,优化了制备超细改性SiO2粉体的工艺条件.利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、红外光谱(FTIR)对制备产物进行了表征.结果表明硅烷偶联剂KH550是有效的改性剂.

关键词: 化学沉淀法 , 超细SiO2 , 硅烷偶联剂KH550 , 原位改性