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p-Si薄膜生长的ECR-CVD等离子体系统的结构设计

殷景志 , 龙北红 , 邵丽梅 , 阮圣平 , 胡立发 , 刘永刚 , 宣丽

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.03.009

提出了一种生长p-Si薄膜的ECR-PECVD等离子体系统.系统采用永磁铁和线圈相结合,改善反应室磁场的均匀性;微波窗口设计成多层结构,避免窗口污染;衬底托架移动和旋转利于改善生长膜的均匀性.

关键词: 电子回旋共振 , 微波等离子体 , p-Si薄膜

阴/阳极电流密度对铝合金微弧氧化陶瓷膜耐蚀性的影响

吴汉华 , 金曾孙 , 龙北红 , 汪剑波 , 王秀琴

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2004.12.004

为了弄清铝合金微弧氧化重要参数对其耐点蚀和微硬度的影响,在氢氧化钠和硅酸钠溶液中,保持阳极电流密度为15A/dm2,制备了阴/阳极电流密度比在0.6~0.8之间的铝合金微弧氧化陶瓷膜.结果表明:阴/阳极电流密度比对陶瓷膜的抗点腐蚀性和硬度有很强的影响;不同阴/阳极电流密度比所制备的陶瓷膜微观结构差异较大,陶瓷膜抗点腐蚀性和硬度的不同是由这种微观结构差异所引起的.

关键词: 微弧氧化 , 电流密度比 , 铝合金 , 显微硬度 , 抗点蚀性

阴/阳极电压对钛合金微弧氧化膜特性影响的研究

吴汉华 , 王秀琴 , 龙北红 , 汪剑波 , 金曾孙 , 李哲奎

功能材料

在Na2CO3-Na2SiO3溶液中,采用正负不对称交流微弧氧化电源在钛合金上制备出了多孔金红石TiO2薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)分别研究了钛合金微弧氧化陶瓷膜的相组成和微观结构,实验结果表明,氧化膜主要由大量金红石和少量锐钛矿TiO2组成;膜表面布满了尺寸不到4μm的小孔,膜截面没有明显的疏松层和致密层之分.对微弧氧化样品在3.5%NaCl溶液中的抗点腐蚀测试表明,阴极峰值电压与样品的耐腐蚀性能密切相关,当阴、阳极峰值电压和处理时间分别为45、320V和30min所制备的钛合金微弧氧化样品其抗点腐蚀能力最强.

关键词: 微弧氧化 , 阴/阳极峰值电压 , 抗点腐蚀 , 钛合金

InP基应变补偿结构偏振不灵敏半导体光放大器制作的研究

殷景志 , 杜国同 , 龙北红 , 杨树人 , 许武 , 宣丽

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.02.009

为了制备偏振不灵敏的半导体光放大器(SOA),将有源区设计为由4个压应变、3个张应变阱层及晶格匹配的垒层InGaAsP交替组合而成的应变补偿结构.器件做成带有倾角的扇形脊形波导结构,避免了常规制作SOA的复杂工艺.对样品3在80~125 mA电流范围内,获得了偏振灵敏度≤0.6 dB,最小可达0.1 dB; 较大的电流范围内FWHM值为40 nm.

关键词: 应变补偿 , 偏振不灵敏 , 半导体光放大器

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