籍凤秋
,
康拥政
,
曹传宝
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2007.04.006
采用机械球磨法,以石墨为反应前驱物,在充有300kPa压力的氨气气氛下连续球磨200h,然后在氨气气氛、650℃以上的温度条件下热处理4h,制备出C3N4纳米单晶.X射线粉末衍射(XRD)确定出样品中主要晶相为β-C3N4,此外还有少量的α-C3N4.电子衍射、红外光谱测试结果进一步表明产物的结构为C3N4单晶.
关键词:
机械球磨法
,
β-C3N4
,
α-C3N
,
纳米单晶
张永平
,
顾有松
,
常香荣
,
田中卓
,
时东霞
,
张秀芳
,
袁磊
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2000.03.016
采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),使用高纯N2(99.999%)和CH4(99.9%)作反应气体,在多晶Pt(99.99%)基片上沉积C3N4薄膜X射线能谱(EDX)分析结果表明N/C原子比为1.0～1.4,接近C3N4的化学比;X射线衍射谱(XRD)说明薄膜主要由β和α-C3N4组成;X射线光电子谱(XPS)、傅立叶变换红外谱(FT IR)和喇曼(Raman)谱说明在C3N4薄膜中存在C-N键.
关键词:
微波等离子体化学气相沉积
,
β-C3N4
,
薄膜
,
超硬材料
张永平
,
顾有松
,
常香荣
,
田中卓
,
时东霞
,
张秀芳
,
袁磊
功能材料
本文采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法,用高纯氮气(99.999%)和甲烷(99.9%)作反应气体,在单晶硅和多晶铂基片上沉积βC3N4薄膜.X射线能谱(EDX)分析了这种晶态C-N膜的化学成分,对不同样品的分析结果表明,N/C原子比在1.1～2.0范围内.X射线衍射结构分析结果与计导的α-和β-C3N4单相X射线的峰位和强度相比较,说明它是α-和β-C3N4的混合物.FT一IR和Raman谱支持C-N共价键的存在.薄膜的体弹性模量达到349GPa.
关键词:
β-C3N4
,
超硬薄膜
,
磁波等离子体化学气相沉积
