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新型含三氰基呋喃受体的非线性光学材料合成及性能研究

唐翔 , 唐先忠 , 赵波 , 王洋

功能材料

合成了2种含三氰基呋喃受体的新型非线性光学(NLO)生色团分子.利用元素分析、1H-NMR和FT-IR对这些分子的结构进行了表征.TGA测试结果表明这两种材料具有较好的热稳定性,其热分解温度(Td)最高达311℃.UV-Vis光谱表明材料具有较好的透光性.用DFT-B3LYP方法在6-31G基组下对分子的结构进行了优化并计算出其静态二阶极化率β值最高达5.9×10-28esu.

关键词: 非线性光学材料 , 三氰基呋喃 , 热性能 , DFT