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溅射工艺条件对TbFeCo/Pt薄膜磁性能的影响

程伟明 , 李佐宜 , 胡珊 , 杨晓非 , 董凯锋 , 林更琪

功能材料

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了TbFeCo/Pt非晶垂直磁化膜,系统研究了溅射工艺参数对TbFeCo薄膜磁性能的影响.振动样品磁强计测量结果表明:Tb含量在补偿成分点附近,采用较低的溅射氩气压与Pt底层,有利于提高TbFeCo薄膜的磁性能;当Tb含量为0.24,溅射功率为300W,溅射气压为0.53Pa,薄膜厚度为140nm时,TbFeCo/Pt薄膜矫顽力达到476kA/m,饱和磁化强度为151kA/m,剩磁矩形比超过0.8,该薄膜有望用作高密度光磁混合记录介质.

关键词: 射频磁控溅射 , 非晶垂直磁化膜 , 矫顽力 , 饱和磁化强度 , 光磁混合记录

光磁混合记录技术及材料进展

晋芳 , 李佐宜 , 黄致新 , 李震 , 程晓敏

材料导报

光磁混合记录技术是一种将磁光记录及磁记录的优点相结合,获得极高存储密度的新型数据记录方式.文中较全面地介绍了这种记录方式的基本原理、读写方式、记录介质及记录磁头研究现状,展望了这种记录方式的前景,探讨了目前所面临的问题.

关键词: 光磁混合记录 , 高密度存储 , 超顺磁极限 , 巨磁阻磁头

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