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新工艺生长的InGaN量子点的结构与电学性质研究

曲宝壮 , 朱勤生 , 陈振 , 陆大成 , 韩培德 , 刘祥林 , 王晓晖 , 孙学浩 , 李昱峰 , 陆沅 , 黎大兵 , 王占国

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.01.003

利用金属有机化学气相沉积( MOCVD)技术 , 采用一种称为低温钝化的新生长方法成功地生 长出多层 InGaN/GaN量子点.这种方法是对 GaN表面进行钝化并在低温下生长 ,从而增加表面吸 附原子的迁移势垒.采用原子力显微镜清楚地观察到该方法生长的样品中岛状的量子点.从量子点 样品的 I- V特性曲线观察到了共振隧穿引起的负阻效应,其中的锯齿状峰形归因于零维量子点的 共振隧穿.

关键词: 量子点 , MOCVD , 共振隧穿 , InGaN/GaN

小偏压下阱中阱结构的量子隧穿特性及其实现

安盼龙 , 赵瑞娟

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2011.05.019

共振隧穿是电子的隧穿概率在某一个能量值附近以尖锐的峰值形式出现的隧穿,是目前为止最有希望应用到实际电路和系统的量子器件之一,其特点是器件的响应速度非常快.用传递矩阵的方法分别计算了在外加偏压下,对称双势垒、三势垒应变量子阱结构的透射系数与入射电子能量和隧穿电流与偏置电压的关系,模拟了应变多量子阱结构的隧穿系数和Ⅰ-Ⅴ特性曲线.计算得到隧穿电流峰值位置与实验测试值符合得很好,对于设计共振隧穿二极管并为进一步实验提供理论指导具有重要的意义.

关键词: 光电子学 , 量子阱 , 共振隧穿 , 透射系数 , 隧穿电流

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