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大面积YBCO超导薄膜沉积工艺

王小平 , 刘援 , 李文祥 , 袁冠森 , 古宏伟 , 王晓华 , 刘安生

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1998.06.015

用大直径中空柱状阴极直流磁控溅射装置, 在Φ51 mm LaAlO3衬底上制备了YBCO薄膜. 利用X射线衍射、电子通道花样、Φ扫描、扫描电镜对薄膜进行了分析. 在51 mm直径范围内薄膜的零电阻温度Tc为88～90 K.

关键词: 磁控溅射 , 大面积YBCO薄膜 , 沉积