张麦丽
,
王秀峰
,
牟强
,
张方辉
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2005.01.004
将光刻胶涂敷在带有ITO薄膜的玻璃表面上,利用紫外光对其进行光刻,通过金相显微镜观察刻蚀后的ITO表面形貌,定性地讨论各个工艺的不同对刻蚀后的电极的影响,得到最佳清洗工艺为:洗涤剂棉球擦洗,然后分别用丙酮、蒸馏水超声清洗两次,烘干;对于正性光刻胶RZJ-390PG,最佳实验效果的曝光时间为5 min;最佳显影时间为2 min;最佳刻蚀时间为6 min,为OLED得到精细阳极奠定了基础.
关键词:
ITO
,
光刻
,
曝光时间
,
显影时间
,
刻蚀时间
