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阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜

李超 , 曹传宝 , 朱鹤孙 , 吕强 , 黄福林

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2004.01.009

用双氰胺在乙腈中的溶液作沉积液,以镀有铟锡氧化物(ITO)的导电玻璃为衬底,在阴极上制备了高氮含量的CNx薄膜. XPS分析表明,薄膜最高氮碳原子比N/C为1.22(接近C3N4中氮碳计量比),碳和氮主要以C-N、 CN 的形式成键. FTIR支持XPS的分析结果. 拉曼光谱与大多数报道的氮化碳的拉曼光谱不同,在1 098和1 950 cm-1处有2个明显的峰,前者可归属为C-N,后者可归属为 CN . 在50 ℃、1 250 V下得到的样品薄膜的纳米硬度为11.31 GPa,弹性模量为86 GPa. 提出了极化竞争反应机制,简要的解释了CNx薄膜的沉积过程.

关键词: 氮化碳膜,电化学沉积 ,硬度 , 模量

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