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Ta/[NdFeB/Nd]n/Ta(n=1,5,8,10)多层膜磁性能研究

张敏刚 , 李敏杰 , 刘丽 , 刘文峰 , 陈峰华

稀有金属材料与工程

采用磁控溅射法制备了Ta/[NdFeB/Nd]/Ta(n=1,5,8,10)多层膜.采用X射线衍射仪、振动样品磁强计及原子力显微镜对薄膜样品的晶体结构、磁学性能及表面形貌进行了测试分析;并对薄膜的温度稳定性进行了测试.结果表明,在NdFeB与Nd的总厚度保持不变的情况下,随NdFeB/Nd层数的增加薄膜的矫顽力先增大后减小,其中n=8时样品磁性能最好.最佳磁性能为Hci=1995 kA/m,(BH)max=111.3 kJ/m3.

关键词: 永磁薄膜 , 相结构 , 矫顽力 , 磁能积

微机电系统用TbCu7型SmCo基薄膜的合成

彭龙 , 李乐中 , 陈松 , 李元勋

稀有金属材料与工程

微机电系统(MEMS)的发展要求Si基片上的永磁薄膜具有良好的热稳定性.采用磁控溅射工艺在单晶Si(100)基片上沉积了SmCo基永磁薄膜,研究了溅射参数对薄膜沉积速率、微观结构、晶体结构和磁性能的影响.结果表明:通过调整溅射参数可以获得TbCu7型结构的SmCo基永磁薄膜.该薄膜具有良好的晶粒取向和微观结构,因而获得了较好的面内磁性能,其反磁化过程主要受控于畴壁钉扎机制.

关键词: SmCo合金 , 永磁薄膜 , 溅射 , MEMS

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