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三元青铜/环境界面上物质转移的化学行为

王菊琳 , 许淳淳 , 吕国诚

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.03.004

用模拟闭塞电池法(O.C.)研究了青铜在模拟环境介质0.028 mol·L-1NaCl+0.01 mol·L-1Na2SO4+0.016 mol.L-1NaHCO3中的局部腐蚀孔内或裂纹内的化学变化.通电32 h后闭塞区内溶液的Ph值由7.00降至5.02,与此同时Cl-和SO24-向闭塞区内迁移,其浓集倍数分别是6.31和2.93;测定了闭塞区内外Cu、Sn、Pb金属离子的浓度,据此计算出溶解因子fsn/Cu小于1,fpb/Cu大于 1,表明青铜中各元素选择性腐蚀的顺序为Pb>Cu>Sn,腐蚀速度Pb>Cu>Sn;用XRD分析了腐蚀产物的组成,解释了青铜文物表面腐蚀产物的分层现象,即从里到外为CuCl,CuCl和Cu2O,Cu的二价化合物.

关键词: 金属材料 , 青铜 , 环境 , 溶解因子 , XRD

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