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刻蚀处理对钛表面形貌的影响

张亚菲 , 王卉 , 杜荣归 , 林昌健

功能材料

发展电化学刻蚀和化学刻蚀技术,对钛表面进行处理,并应用扫描电镜、X射线衍射方法对其表面进行表征,探讨电化学刻蚀钛表面形成微观结构的机理.结果表明,经刻蚀后钛表面形成了纳米级微观结构,提高了表面粗糙度,可增强生物材料涂层与钛基底的结合强度.

关键词: , 表面处理 , 电化学刻蚀 , 化学刻蚀 , 表面形貌

腐蚀液配方对刻蚀高阻硅多孔阵列结构形貌影响的研究

蒋稳 , 邹宇 , 伍建春 , 展长勇 , 朱敬军 , 安竹 , 杨斌 , 黄宁康

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.15.020

采用电化学刻蚀方法,在n型高阻单晶硅片上进行有序多孔阵列的制备.就腐蚀液配方的改变对制备的多孔阵列结构的形貌进行观察研究.研究表明,在其它相同的实验条件下,改变组元乙醇的比例,制备的多孔阵列结构形貌会有显著的差别.随着腐蚀液中组元乙醇含量的减小,制备的多孔阵列结构中的孔的表面及断面形貌逐渐显得光滑、平整.当改变腐蚀液配方中的HF浓度时,制备的多孔阵列结构中的孔的大小及深度也随之改变,对此的机制进行了探讨.

关键词: 中子探测器 , 电化学刻蚀 , 多孔硅阵列 , 形貌

电化学刻蚀方法制备半导体材料纳米阵列

李国庆 , 刘爱民 , 潘萌 , 杜晓书 , 郭凡

功能材料

电化学刻蚀方法是一种非常简单实用的制备规则纳米阵列结构的方法.本文简述了用电化学刻蚀方法制备InP以及Si规则纳米阵列的方法.SEM图像给出了这些规则纳米阵列的结构.

关键词: 电化学刻蚀 , 多孔InP , 多孔硅 , SEM

电化学刻蚀对钛基IrO2-Ta2O5电极性能的影响

张苓 , 冯庆 , 蔡继东 , 张玉萍 , 贺斌

钛工业进展

采用电化学刻蚀处理钛基材,再通过涂覆、烧结的方法制备出钛基IrO2-Ta2 O5电极.与喷砂处理相比,经电化学刻蚀处理后,钛基材表面的凹坑分布更均匀,涂覆涂层后的钛基IrO2-Ta2 O5电极的表面凹坑深浅均匀,呈规则分布.强化寿命测试结果表明,经电化学刻蚀处理后制备的钛电极强化寿命平均值达到20 d,比喷砂处理后制备的电极寿命(16 d)显著提高20%;电化学刻蚀处理后制成的钛电极析氧电位为1.62~1.73 V,明显低于喷砂后制备的钛电极(1.92 V),电解时可降低电耗.

关键词: 钛基IrO2-Ta2O5电极 , 电化学刻蚀 , 表面预处理 , 强化寿命 , 析氧电位

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