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CHF3/C6H6等离子体中的基团分析

程珊华 , 宁兆元 , 李戈扬 , 叶超 , 杜伟 , 辛煜

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.03.002

在一个微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积系统中,测量了 CHF3、 C6H6及其混合气体放电的质谱和发射光谱图,分析了等离子体中主要基团的分布及其产生的途径,研究了放电功率和流量对主要基团密度的影响,以及它们与氟化非晶碳薄膜沉积速率和键结构之间的关联.结果表明,提高微波功率会增加 CHx、 CFx等成膜基团的密度,有利于加大沉积速率;而增加 CHF3的进气量则会加大 F原子基团的密度,这是由于它控制了薄膜的氟化程度.

关键词: 电子回旋共振等离子体 , 氟化非晶碳薄膜 , 四极质谱 , 发射光谱

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