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电容器用铝箔交流腐蚀理论扩面倍率K的计算机模拟计算*

冯哲圣 , 杨邦朝 , 肖占文

功能材料

建立了YF基元生长模型来模拟腐蚀箔形态,并利用该模型计算了各种形成电压下的理论扩面倍率,所得到的结果介于C.G.Dunn的圆孔模型和永田伊佐也的方孔模型之间.结果显示:目前近高压区(＞300V)的实际扩面倍率与理论扩面倍率已很接近,通过电蚀扩面的前景较小,而对于中低压腐蚀箔,单位面积的静电容量的提高余地还很大.

关键词: 铝箔 , 电腐蚀过程 , 模拟 , 表面积