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直流与脉冲电沉积Ni-Cr合金镀层的结构及耐蚀性

杜登学 , 孙健 , 吕鸿飞 , 周磊

稀有金属

用直流电沉积(DC)、脉冲电沉积(PC)技术在低碳钢表面制备Ni-Cr合金镀层,采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)等方法,研究了电沉积方式对合金镀层晶粒结构和表面形貌的影响;用浸泡法和电化学极化法测试了合金镀层在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的耐蚀性.结果表明,电沉积方式对镀层结构和性能有较大影响:PC方式得到的合金镀层,其纳米晶尺寸更小(由45 nm减小为26 nm),镀层表面致密性更高;表现在性能上,与DC相比,PC合金镀层的显微硬度更大(由7000 MPa增加到8250 MPa),耐蚀性更好(自腐蚀电位由-0.624V正移到-0.477 V,腐蚀电流密度由1.911×10-4A/cm2减小到2.587× 10-5 A/cm2).

关键词: Ni-Cr合金镀层 , 直流与脉冲电沉积 , 镀层结构与性能 , 耐蚀性

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