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等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.04.042

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600°C沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2Os体材料相当.

关键词: 氧化铝薄膜 , 等离子体源 , 磁控溅射沉积 , 折射率

GCr15钢表面钽沉积及氮离子注入的磨损性能

李忠文 , 唐光泽 , 马欣新

稀有金属材料与工程

利用磁控溅射法在GCr15轴承钢表面沉积厚约100 nm的钽膜,然后对其进行氮等离子体基离子注入,注入能量为50 keV,利用GXRD分析改性层的组成相结构,用Φ6 mm的氮化硅球作为对磨件测试处理后试样的磨损性能,并利用SEM结合EDX观测磨痕的形貌及成分,探讨其磨损机制.结果表明,改性层含有钽的氮化物,注入剂量较低时,化合物是TaN0.1,随着注入剂量增加,形成TaN;GCr15钢经过处理后能够提高磨损性能,摩擦系数有所降低:表面经过处理后,摩擦系数由未处理前的0.8~1下降至0.2~0.3,同时磨损量大幅度降低,降低幅度达到88%.注入层的磨损机制主要以磨粒磨损为主,兼有粘着磨损.

关键词: 磁控溅射沉积 , 氮离子注入 , 摩擦系数

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