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CVD制备3C-SiC及其应用于MEMS的研究进展

严春雷 , 刘荣军 , 曹英斌 , 张长瑞 , 张德坷

材料导报

高温、强振、强腐蚀、高湿等恶劣环境中的监测和控制系统对MEMS (Microelectromechanical systems)提出了新的挑战.SiC具有化学惰性,高热导率及优良的力学、电学、高温性能,在MEMS技术中备受青睐,成为SiMEMS体系极具竞争力的替代材料.综述了关于立方相碳化硅(3C-SiC)薄膜的化学气相沉积(CVD)制备方法,介绍了其力学、电学性能的最新研究进展,最后举例说明了3C-SiC薄膜在MEMS器件中应用的研究现状.

关键词: 立方相碳化硅薄膜 , 化学气相沉积 , 力学性能 , 电学性能 , MEMS器件

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