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基板支撑梢对TFT栅界面SiNx和a-Si成膜特性的影响

王守坤 , 孙亮 , 郝昭慧 , 朱夏明 , 袁剑峰 , 林承武

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20122705.0613

采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制得氮化硅和氢化非晶硅薄膜,对PECVD设备中基板支撑梢区域的膜质进行了研究.结果显示基板支撑梢对氮化硅薄膜的影响是:基板支撑梢区域的膜厚(沉积速率)高于非基板支撑梢区域,氢含量及[SiH/NH]值高于非基板支撑梢；对氢化非晶硅薄膜的影响是:基板支撑梢区域的膜厚(沉积速率)小于非基板支撑梢区域,氢含量高于非基板支撑梢.并对成膜影响的机理进行了分析讨论.

关键词: 等离子体增强化学气相沉积法 , 基撑梢 , 氮化硅膜 , 氢化非晶硅膜 , 傅里叶红外分析

聚乳酸/SiOx薄膜的制备及对气体的透过性和选择性

宋树鑫 , 梁敏 , 王羽 , 刘林林 , 张玉琴 , 齐小晶 , 董同力嘎

高分子材料科学与工程 doi:10.16865/j.cnki.1000-7555.2016.11.026

采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在聚乳酸(PLLA)薄膜表面沉积SiOx层,以改善PLLA薄膜对气体的透过性和选择性.通过红外光谱仪和压差法透气仪分别对沉积效果和薄膜透气性进行测试.结果表明,PLLA/SiOx复合膜相比纯PLLA膜,其对气体的透过性有所下降,而选择性有所提高.在25℃时,40 μm的PLLA/SiOx膜对O2、CO2、N2和水蒸气的透过性分别降低了58.9％,48.6％,67.8％和52.3％,透气比α(CO2/O2)、α(O2/N2)和α(CO2/N2)则分别平均提高了20.0％,21.8％和37.5％;25℃时,60 μm的PLLA/SiOx膜对O2、CO2、N2和水蒸气的透过性分别降低了23.8％,14.5％,46.7％和49.5％,透气比α(CO2/O2)、α(O2/N2)和α(CO2/N2)则分别提高了10.7％,30.7％和38.2％.

关键词: 聚乳酸 , 等离子体增强化学气相沉积法 , SiOx层 , 气体透过性 , 气体选择性

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