王颖男
,
杭凌侠
,
胡敏达
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.01.018
为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术--等离子体抛光.介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研究,最后进行工艺参数优化.结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工.
关键词:
超光滑表面
,
等离子体抛光
,
电容耦合放电
,
表面粗糙度
,
去除速率
