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X射线照相缺陷定位方法分析与验证

蔡闰生 , 任华友

宇航材料工艺

相对于公式法,双标记法解决了焦距和焦点位移测量误差所带来的问题.但此方法在射线检测领域普及程度并不高,其中原因,首先是原理较复杂,针对性研究少,其次是测量精度没有被量化,可信度不高.本文从公式法入手,通过对原理公式的变化分析和线性化分析,明晰了双标记法缺陷深度定位原理,推导了缺陷深度定位公式,利用简化模型,对双标记法的定位精度做了进一步的分析与计算,最后针对具体被检测物,测试验证了双标记法的计算公式和测量精度,用理论和实践证明了方法和精度的可靠性.

关键词: X射线 , 缺陷深度 , 定位精度

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