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TiAlN/SiO2太阳能选择性吸收薄膜的制备与研究

余超 , 冒守栋 , 汪少杰 , 谢婷婷 , 孙可卿 , 宋振纶

材料导报

采用直流磁控溅射法在铜基底上制备了TiAlN/SiO2选择性吸收薄膜.通过调整制备过程中的工艺参数,得到优化后的组合薄膜(铜基底),其吸收率可达0.92、发射率为0.06.在此组合膜系中,TiAlN为吸收层,SiO2为减反层.对基底为铜片的样品在550℃退火2h,其性质保持稳定,表明TiAlN/SiO2组合薄膜在高湿太阳能选择性吸收领域具有一定的应用前景.

关键词: 选择性吸收薄膜 , 吸收率 , 发射率 , 热稳定性

N2流量对室温磁控溅射制备Ti-N薄膜太阳能光谱吸收特性的影响

王轩 , 董国波 , 张敏 , 高方圆 , 朱敦智 , 刁训刚

稀有金属材料与工程

利用非平衡磁控溅射技术,在室温条件下制备了一系列不同N2流量的Ti-N薄膜,研究了N2流量对薄膜微观形貌和光学性能的影响.根据分析结果设计并制备了四层结构的Ti-N太阳能选择性吸收薄膜,通过软件对薄膜进行了优化设计并进行了实验验证.结果表明,随着N2流量的增加,薄膜的微观形貌发生变化,逐渐出现气泡状沉积物及气泡破裂状形貌,直至变为无定型态.通过紫外-可见-近红外光谱分析可知,选用合适的工艺可有效提高太阳能吸收薄膜光学性能,利用软件对薄膜进行优化设计可使薄膜光学性能获得进一步改进,经过优化的薄膜吸收率达0.9048,可用作太阳能光谱选择性吸收薄膜.

关键词: 磁控溅射 , 室温 , 氮化钛 , 选择性吸收薄膜 , 优化设计

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