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单靶磁控溅射制备铜铟硒和铜铟锌硒薄膜及其结构、光学性质研究

王伟君 , 何俊 , 张克智 , 陶加华 , 孙琳 , 陈晔 , 杨平雄 , 褚君浩

无机材料学报 doi:10.15541/jim20140309

采用单靶磁控溅射法制备了铜铟硒(CIS)和铜铟锌硒(CIZS)薄膜.XRD表征发现CIZS-300出现了与其它薄膜不同的择优取向,分析认为贫铜的状态和适宜温度可能促使薄膜择优取向从(112)向(220)转化;拉曼光谱在171 cm-1处出现的较强峰,和206 cm-1处出现的较弱峰,分别为A1和B2振动模式,而Zn的掺入导致A1拉曼峰的宽化和蓝移;Zn的掺入使Cu含量改变进而使CIZS禁带宽度增大,这是由于Se的p轨道和Cu的d轨道杂化引起的;SEM测试结果表明CIZS薄膜表面比CIS表面更为紧密、平滑.

关键词: 磁控溅射 , 铜铟锌硒 , 锌掺杂

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