张继华
,
莫尚军
,
闻伟
,
陈宏伟
,
杨传仁
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2011.03.002
在低成本的石英玻璃衬底上制备高性能电光薄膜非常有吸引力.本文采用溅射方法,并结合Pb3O4气氛退火工艺,在ITO/石英玻璃衬底上制备锆钛酸铅镧(PLZT 8/65/35)薄膜.结果表明:在优化工艺条件下,薄膜为(110)方向择优生长,表面均方根粗糙度为3.1nm,可见光范围内透过率为81.3%,消光系数为0.003.这种表面光滑和高光学性能的PLZT薄膜在集成光学和光电子器件具有重要的应用潜力.
关键词:
铁电
,
锆钛酸铅镧(PLZT)
,
薄膜
,
光学性能
