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Na2SiO3溶液体系ZrH1.8表面微弧氧化陶瓷层的研究

王志刚 , 陈伟东 , 闫淑芳 , 范秀娟 , 徐志高

稀有金属

在Na2SiO3+NaOH+Na2EDTA体系下,采用恒压模式对氢化锆进行微弧氧化处理获得ZrO2陶瓷层.通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)仪、电子能谱(EDS)仪,分析了陶瓷层的表面形貌、截面形貌、相结构及陶瓷层的元素分布.结果表明:在硅酸盐体系中,通过恒压模式在ZrH1.8表面制得膜厚约为45 μm的ZrO2陶瓷膜,膜层分为过渡层、致密层和疏松层.EDS结果表明:微弧氧化陶瓷层中除基体元素Zr及溶液元素O外,未发现Si、Na等溶液元素的出现,说明SiO32-、Na+等没有参与反应;在硅酸盐体系中ZrH1.8表面微弧氧化陶瓷层主要由M-ZrO2、T-ZrO2及C-ZrO2构成,M-ZrO2约90%.

关键词: 氢化锆 , 微弧氧化 , 硅酸盐 , 阻氢渗透

恒压模式下电源频率对ZrH1.8表面微弧氧化陶瓷层的影响

王志刚 , 陈伟东 , 闫淑芳 , 范秀娟

稀有金属材料与工程

在磷酸盐体系下,采用恒压模式对氢化锆(ZrH1.8)进行微弧氧化.考察了电源频率对氧化膜的厚度、相结构、截面形貌以及阻氢性能的影响.利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、膜层测厚仪分析了氧化膜的表面形貌、截面形貌、相结构及膜层厚度.通过真空脱氢实验评估膜层的阻氢性能.结果表明:随着电源频率的增加,ZrH1.8表面微弧氧化膜层厚度由约50μm仅减小至约45 μm;电源频率的增加能有效提高膜层的致密性;电源频率的改变对于膜层的相结构没有明显影响,膜层主要由单斜相氧化锆(M-ZrO2)和四方相氧化锆(T-ZrO1.88)构成,其中单斜相占80%以上;电源频率的增加有助于提高氧化膜的阻氢效果,当电源频率增加到300 Hz时,氧化膜的氢渗透降低因子PRF值高达10.8.

关键词: 氢化锆 , 微弧氧化 , 频率 , 阻氢渗透

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