刘翠霞
,
杨延清
,
黄斌
,
张荣军
,
罗贤
,
任晓霞
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00933
在化学气相沉积SiC膜过程中, 分别考虑了化学反应的动力学以及基底表面原子的沉积与扩散, 利用动力学蒙特卡罗方法, 建立了SiC膜{111}取向的三维原子尺度模型, 使用MATLAB模拟了原子尺度的SiC膜{111}取向生长过程. 模拟结果表明: 膜的生长经历了小岛的生成、小岛的合并与扩展、小岛间达到动态平衡三个阶段. 随着温度的升高, 膜的生长速率、表面粗糙度以及膜的厚度都增大. 随着生长速率的增大, 表面粗糙度增大, 相对密度减小. 模拟结果与理论和实验具有较好的吻合性.
关键词:
化学气相沉积
,
chemical vapor deposition
,
kinetic monte carlo simulation
,
surface roughness
,
relative density
苏青峰
,
夏义本
,
王林军
,
史伟民
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.00499
采用激光抛光和热化学抛光相结合的方法, 对通过热丝CVD方法生长的金刚石薄膜进行了复合抛光处理. 并利用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对金刚石薄膜进行了表征. 结果表明, 所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶(111)取向膜; 经复合抛光后, 金刚石薄膜的结构没有因抛光而发生改变, 金刚石薄膜的表面粗糙度明显降低, 光洁度大幅度提高, 表面粗糙度R a在100nm左右, 基本可以达到应用的要求.
关键词:
CVD金刚石薄膜
,
composite polishing
,
surface roughness
