高相东
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李效民
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于伟东
无机材料学报
采用连续离子层吸附与反应法(SILAR),以锌氨络离子([Zn(NH3)4]2+)为前驱体溶液,在玻璃衬底上沉积了ZnO薄膜,以XRD和SEM等手段分析了薄膜的晶体结构和表面、断面形貌,考察了空气气氛下的退火过程对ZnO薄膜晶体结构与微观形貌的影响,并初步探讨了以SILAR方法沉积ZnO薄膜的机理.结果表明,经200次SILAR沉积循环,所得ZnO薄膜为红锌矿结构的多晶薄膜,沿<002>方向择优生长;薄膜表面致密、光滑均匀,厚度约800nm.退火处理使ZnO薄膜氧缺位减少,晶粒沿c轴取向增强;随退火温度升高,锌间隙原子增加;500℃退火时,ZnO薄膜发生再结晶.减小前驱体溶液的[NH3·H2O]/[Zn2+]比率可提高ZnO薄膜生长速率.
关键词:
ZnO
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thin films
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successive ionic layer adsorption and reaction process （SILAR）
