张志明王俭秋韩恩厚柯伟
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00206
利用多种分析手段深入分析了打磨处理的690TT合金在模拟压水堆一回路高温高压水环境中经不同时间浸泡后表面生长的氧化膜的微观结构. 结果表明, 从短期氧化到长期氧化, 氧化膜表面形貌变化不明显; 氧化膜主要由尖晶石结构的氧化物和单质Ni构成. 浸泡96和1440 h后, 氧化膜主要由富含Cr的氧化物构成. 浸泡720, 1440和2160 h后, 氧化膜均由外层、中间层和内层构成: 外层是分散的富含Ni和Fe的尖晶石结构的大颗粒氧化物; 中间层是致密的富含Cr的尖晶石结构的小颗粒氧化物; 内层是均匀连续的富含Cr的氧化物. 中间层和内层氧化物能对基体起到良好的保护作用; 随着氧化时间的延长, 保护层的平均生长速率逐渐降低. 打磨处理促进了690TT合金表面保护性氧化膜的生长.
关键词:
690TT合金
,
grinding treatment
,
immersion time
,
oxide film
,
protective structure
胡轶嵩
,
王俭秋
,
柯伟
,
韩恩厚
材料热处理学报
利用静态高压釜,在330℃的10%NaOH+10 g/L PbO腐蚀介质中,对690TT合金进行5～60 d的浸泡实验,结果表明:690TT合金氧化膜由NiO、NiFe<,2>O<,4>和NiCr<,2>O<,4>构成.合金的氧化膜分层,靠近基体的腐蚀产物为混杂的富Cr和富Ni氧化物,是沿晶腐蚀和表面均匀腐蚀综合作用所致.中间层主要以NiCr<,2>O<,4>为主,外层是NiFe<,2>O<,4>以及NiO<,0>氧化膜同时具有n型和P型半导体特征,内层富Cr的氧化物为p型半导体,而外层富Fe的氧化物为n型半导体.
关键词:
690TT合金
,
氧化膜
,
半导体
,
沿晶腐蚀
张志明王俭秋韩恩厚柯伟
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00300
利用AFM, SEM, TEM, EDS及XPS分析了电解抛光处理690TT合金在含B和Li, 充 H2的高温高压水溶液中经不同时间浸泡后表面生长氧化膜的微观结构. 结果表明, 从短期氧化到长期氧化, 氧化膜表面形貌变化不明显; 氧化膜主要由具有尖晶石结构的氧化物和单质Ni构成. 浸泡720, 1440和2160 h后, 氧化膜均由外层、中间层和内层构成: 外层是分散的富含Ni和Fe的尖晶石结构的大颗粒氧化物; 中间层是疏松的富含Ni的尖晶石结构的针状氧化物; 内层是连续致密的富Cr氧化物. 仅氧化膜中的内层氧化物能对基体起到良好的保护作用. 电解抛光处理不利于690TT合金表面保护性氧化膜的快速生长. 浸泡至2160 h后, 氧化膜依然缺乏保护性, 内层氧化膜的平均生长速率并未显著降低.
关键词:
690TT合金
,
eletropolishing treatment
,
immersion time
,
oxide film
,
protective structure
张志明
,
王俭秋
,
韩恩厚
,
柯伟
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00300
利用AFM,SEM,TEM,EDS及XPS分析了电解抛光处理690TT合金在含B和Li,充H2的高温高压水溶液中经不同时间浸泡后表面生长氧化膜的微观结构.结果表明,从短期氧化到长期氧化,氧化膜表面形貌变化不明显;氧化膜主要由具有尖晶石结构的氧化物和单质Ni构成.浸泡720,1440和2160 h后,氧化膜均由外层、中间层和内层构成:外层是分散的富含Ni和Fe的尖晶石结构的大颗粒氧化物;中间层是疏松的富含Ni的尖晶石结构的针状氧化物;内层是连续致密的富Cr氧化物.仅氧化膜中的内层氧化物能对基体起到良好的保护作用.电解抛光处理不利于690TT合金表面保护性氧化膜的快速生长.浸泡至2160 h后,氧化膜依然缺乏保护性,内层氧化膜的平均生长速率并未显著降低.
关键词:
690TT合金
,
电解抛光处理
,
浸泡时间
,
氧化膜
,
保护性结构
张志明
,
王俭秋
,
韩恩厚
,
柯伟
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00206
利用多种分析手段深入分析了打磨处理的690TT合金在模拟压水堆—回路高温高压水环境中经不同时间浸泡后表面生长的氧化膜的微观结构.结果表明,从短期氧化到长期氧化,氧化膜表面形貌变化不明显;氧化膜主要由尖晶石结构的氧化物和单质Ni构成.浸泡96和1440 h后,氧化膜主要由富含Cr的氧化物构成.浸泡720,1440和2160 h后,氧化膜均由外层、中间层和内层构成:外层是分散的富含Ni和Fe的尖晶石结构的大颗粒氧化物;中间层是致密的富含Cr的尖晶石结构的小颗粒氧化物;内层是均匀连续的富含Cr的氧化物.中间层和内层氧化物能对基体起到良好的保护作用;随着氧化时间的延长,保护层的平均生长速率逐渐降低.打磨处理促进了690TT合金表面保护性氧化膜的生长.
关键词:
690TT合金
,
打磨处理
,
浸泡时间
,
氧化膜
,
保护性结构
张志明
,
王俭秋
,
韩恩厚
,
柯伟
金属学报
doi:10.11900/0412.1961.2014.00351
将电解抛光态690TT合金样品在325℃,15.6 MPa,含1500 mg/LB,2.3 mg/L Li,2.5 mg/LH2的高温高压水中连续浸泡720 h后,取出一半样品用于腐蚀产物的分析,其余样品继续在含2.0 mg/L O2的该高温高压水中连续浸泡720 h.采用SEM,GIXRD和TEM分析了在上述2种条件下样品表面生长的氧化膜的微观结构.结果表明,电解抛光态690TT合金在单一溶氢的高温高压水中表面生长的氧化膜具有双层结构:外层是分散的富含Ni和Fe大颗粒氧化物和富含Ni的疏松的针状氧化物;内层是近连续的富含Cr的氧化物;内外层氧化物均具有尖晶石结构.在溶氢/溶氧的溶液中连续浸泡后,样品表面生长的氧化膜也具有双层结构:外层的形貌、化学组成和物相结构与在单一溶氢条件下生长的氧化膜相似,仅针状氧化物的长度明显增加;而氧化膜内层变成了纳米尺寸的NiO.后期溶解氧扩大了电位-pH图中含Ni的氧化物稳定存在的相区,促进了外层富含Ni的针状氧化物的快速生长;更加重要的是,溶解氧提高了含Fe和Cr氧化物的腐蚀电位,促进了在溶氢条件下生长的内层富Cr氧化物的溶解,破坏了氧化膜的保护性结构,提高了电解抛光态690TT合金的腐蚀速度.在一回路溶氢/溶氧连续浸泡过程中,电解抛光处理并不能降低690TT合金的腐蚀速度.
关键词:
690TT合金
,
氧化膜
,
氢水化学
,
氧水化学
,
保护性微观结构
汪家梅
,
杨晨
,
张乐福
,
孟凡江
,
石秀强
腐蚀与防护
doi:10.11973/fsyfh-201610009
通过化学浸泡试验、动电位极化曲线的测量并结合扫描电镜(SEM)对经特殊热处理的690合金(690TT)点蚀形貌的观察,研究探讨了两种国产690TT合金在室温下的点蚀性能;并根据ASTM G48 A与ASTM G61两种标准对690TT合金抗点蚀性能评估进行了比较.结果表明:两种国产690TT合金中,合金B的抗点蚀性能显著优于合金A的.ASTM G48 A对690TT合金进行点蚀试验的最佳试验参数为50℃/3 h,所得相应数据结果可靠;由于缝隙腐蚀等原因使ASTM G61对690TT合金管的点蚀电位测量稳定性不佳,可重复性较差.
关键词:
690TT合金
,
点蚀
,
标准方法
,
浸泡试验
,
电化学
高路杨
,
但体纯
,
施慧烈
,
桂春
腐蚀与防护
doi:10.11973/fsyfh-201607010
采用动电位极化法在高温高压水环境中研究了690TT合金的点蚀行为.结果表明:试样与导线点焊部位处的封装影响试样的点蚀电位;管状、片状和棒状试样在自然状态下产生的钝化膜稳定,形状的变化与钝化膜厚度的改变不影响点蚀电位,在Cl-质量分数≤0.001％的溶液中,690TT合金不发生点蚀行为,但随着Cl-含量的增加,点蚀发生并加剧.
关键词:
690TT合金
,
点蚀
,
试样形态
,
Cl-含量
