欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(12)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能

王钰萍 , 叶春丽 , 吕建国 , 丛宏林 , 江忠永 , 叶志镇

材料科学与工程学报

本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明:合适的生长温度有利于改善AZO/Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1.11×10^-2Ω^-1,此时方块电阻为8.99Ω/sq,可见光透过率为80%,近红外反射率约70%。本文在较低温度下制备的AZO/Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射性,可以广泛应用于镀膜玻璃、太阳能电池、平板显示器等光电领域。

关键词: AZO , 多层结构薄膜 , 光电性能 , 生长温度

透明导电AZO/Cu双层薄膜制备及其性能

叶春丽 , 王钰萍 , 吕建国

材料科学与工程学报

采用直流磁控溅射方法在玻璃衬底上室温生长了AZO/Cu双层薄膜,Cu层厚度控制在9nm,研究了AZO层厚度对薄膜电学和光学性能的影响。当AZO层厚度为20~80nm时,AZO/Cu双层薄膜具有良好的综合光电性能,方块电阻为12~14Ω/sq,可见光平均透过率为70~75%,品质因子为2×10-3~5×10-3Ω-1。AZO/Cu双层薄膜可以观察到Cu(111)和ZnO(002)的XRD衍射峰。通过退火研究表明,AZO/Cu双层薄膜的光电性能可在400℃下保持稳定,具有良好的热稳定性。本研究制备的透明导电AZO/Cu双层薄膜具有室温制程、综合光电性能良好、结晶性能较好、稳定性高的优点,可以广泛应用于光电器件透明电极及镀膜玻璃等领域。

关键词: AZO , 双层薄膜 , 光电性能 , 室温生长

AZO热压靶材的制备及性能表征研究

王星明 , 白雪 , 段华英 , 孙静 , 卢世刚 , 黄松涛

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2011.03.015

以化学组成ZnO:Al<,2>O<,3>=98:2%的混合粉体为原料,采用热压烧结制备AZO靶材.研究了热压工艺条件对靶材致密化的影响.结果表明,热压温度与压力上升,靶材致密度增大;在AZO靶材的致密化过程中存在"反致密化"现象,这是由于连通气孔的合并与生长及闭合气孔率的升高引起的.在实验条件范围内,在热压工艺条件压力18 MPa、温度1150℃、保温保压时间90 min下.制备了AZO靶材.通过SEM观察热压靶材的断面形貌,阿基米德法测量靶材密度,水银压汞仪测量靶材的平均孔径及孔径分布,XRD测定靶材相结构,四探针测定电阻率等方法对AZO靶材的性能进行了分析表征,结果表明:结构为六方纤锌矿,密度为5.39 g·cm-<'-3>,靶材连通气孔率为0.05%,闭合气孔率为3.4%,电阻率为5.3×10<,-4>Ω·cm.采用射频溅射制备AZO薄膜,对靶材的使用性能及AZO薄膜性能进行了分析,表明靶材使用寿命大于150 W·h,薄膜在可见波段的平均透过率达到85.5%,电阻率达到3.1 x 10<,4>Ω·cm,满足薄膜太阳能对透明导电薄膜性能的要求.

关键词: AZO , 靶材 , 热压 , 溅射 , 薄膜太阳能

透明导电氧化物薄膜研究进展

望咏林 , 颜悦 , 沈玫 , 贺会权 , 张官理

材料导报

综述了透明导电氧化物(TCO)薄膜的应用和发展,重点阐述了TCO薄膜的透明导电机理以及制备工艺的最新研究进展,同时对其研究和应用前景进行了展望.

关键词: 氧化物薄膜 , 透明导电机理 , 制备工艺 , ITO , AZO

AZO晶种层对ZnO纳米线生长及紫外光电导性能的影响

曹东 , 蒋向东 , 李大伟 , 孙继伟

材料导报

采用溶液化学法实现了在Zn(NO3)2/C6H12N4混合溶液中ZnO纳米线在AZO薄膜修饰过衬底上生长.AZO薄膜由射频磁控溅射法制备,通过溅射时间和基底温度的变化改变薄膜形态,重点研究了不同薄膜形态对ZnO纳米线形貌和结构的影响,最终在溅射2h、基底温度250℃晶种上得到垂直于衬底、高度平行取向的ZnO纳米线阵列.在此基础上研究了不同形貌ZnO纳米线阵列的紫外光电导性能差异.结果表明,垂直生长的纳米线较倒伏纳米线紫外响应迅速,分析认为是紫外光照下曝光面积不同造成的.

关键词: AZO , ZnO纳米线 , 溶液化学法 , 紫外光电导性能

射频磁控溅射法制备的ZnO:Al薄膜在不同偏压下的光电特性

陈阳阳 , 史永胜 , 宁磊

材料导报

采用RF磁控溅射法在玻璃衬底和PET衬底上沉积了Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜,衬底的直流偏压为0~50V.主要研究了薄膜的结构、光学和电学特性.在玻璃衬底上制备AZO薄膜的沉积速率随偏压的升高而增大,然而再增加偏压时反而下降.当偏压为30V时,在玻璃衬底上制备的薄膜的最低电阻率为6.5×10-4Ω·cm,在波长450~800nm内的平均透射率大于80%;在PET衬底上制备的薄膜也有相似的特性,但没有在玻璃衬底上制备的好.

关键词: AZO , 玻璃衬底 , PET , 光电性能

溅射功率对AZO透明导电薄膜的影响

史永胜 , 陈阳阳 , 宁青菊 , 秦双亮 , 宁磊

材料导报

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积了AZO透明导电薄膜,并用原子力显微镜观测了薄膜表面形貌,XRD测试了薄膜相结构和单色仪测试了薄膜透射率.结果表明,制备的薄膜具有高度c轴择优取向性,其表面平整,晶粒均匀致密.当溅射功率为180W、溅射气体流量为15sccm、基片温度为200℃时制得的薄膜方阻为10Ω/□,在可见光区平均透射率大于85%.

关键词: AZO , 射频磁控溅射 , 溅射功率 , 方阻 , 透射率

Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长及其性能

王钰萍 , 吕建国 , 叶志镇

材料科学与工程学报

本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明:合适的生长温度有利于改善AZO/Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1.11×10-2Ω-1,此时方块电阻为8.99Ω/sq,可见光透过率为80%,近红外反射率约70%。本文在较低温度下制备的AZO/Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射性,可以广泛应用于镀膜玻璃、太阳能电池、平板显示器等光电领域。

关键词: AZO , 多层结构薄膜 , 光电性能 , 生长温度

CCP/ICP混合放电C4F8/Ar等离子体高、低频功率对AZO薄膜绒面效果的影响

吴明智 , 金成刚 , 王飞 , 黄天源 , 吴雪梅 , 诸葛兰剑

功能材料

室温下,采用射频磁控溅射方法在石英基片上制备掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜.利用CCP/ICP混合放电C4F8/Ar等离子体对制得的AZO薄膜进行绒面处理.利用原子力显微镜(AFM)对薄膜表面形貌进行表征,利用光纤光谱仪分析放电产生的碳氟基团含量的变化.实验结果发现低频功率的增大能够有效增加等离子体中F原子的含量,进而提高薄膜的刻蚀效果,获得较好的绒面结构;但是高频功率变化对薄膜刻蚀效果影响较小.

关键词: AZO , CCP/ICP , 绒面结构 , 发射光谱

煅烧工艺对氧化锌铝(AZO)粉体光学性能的影响

王志勇 , 彭超群 , 王日初 , 王小锋 , 刘兵

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2013.12185

采用聚丙烯酰胺凝胶法制备高浓度Al掺杂ZnO(AZO)前驱体(x(Al)=5.5mol%、6.5mol%),研究煅烧工艺对AZO粉体光学性能的影响.结果表明:随着煅烧温度升高,Al在ZnO中的固溶度降低.当煅烧温度为750℃时,生成ZnAl2O4相.提高煅烧温度,粉体的紫外吸收峰从366 nm红移至373 nm;延长煅烧时间,紫外吸收峰发生蓝移,吸收强度明显增大.室温下AZO粉体光致发光(PL)光谱主要由354 nm的紫外发射峰、406 nm的近边紫外发射峰和430 nm的蓝光发射峰组成.

关键词: AZO , XPS , UV-Vis吸收性能 , 光致发光 , 聚丙烯酰胺凝胶法

  • 首页
  • 上一页
  • 1
  • 2
  • 下一页
  • 末页
  • 共2页
  • 跳转 Go

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词