吴石头
,
王亚平
,
许春雪
,
袁继海
分析化学
doi:10.11895/j.issn.0253-3820.151006
研究了193 nm ArF准分子激光剥蚀系统高空间分辨率下的仪器检出限、ICP质量负载元素分馏、剥蚀深度/束斑直径元素分馏以及基体效应,并在10μm束斑直径下分析了GSD-1G、StHs6/80-G和NIST612中的微量元素。结果表明,仪器检出限随束斑直径的减小而升高,当束斑直径降低至7μm时,部分微量元素的仪器检出限为1~10μg/g。ICP质量负载元素分馏指数与元素第一电离能呈正相关和元素氧化物熔点呈负相关。当剥蚀深度与束斑直径比小于1:1时,由剥蚀深度/束斑直径引起的元素分馏效应可以忽略不计。基体效应研究表明, 50μm与10μm激光束斑下基体效应没有明显的差别。以NIST610为校准物质,Ca为内标元素, 10μm束斑直径下GSD-1G、StHs6/80-G和NIST612中的36种微量元素分析结果与定值基本吻合,分析结果与定值基本匹配。综合考虑在10μm的空间分辨率下,该技术可满足准确分析微量元素的要求。
关键词:
激光剥蚀-电感耦合等离子体质谱
,
ArF准分子激光
,
元素分馏
,
基体效应
,
空间分辨率
游利兵
,
周翊
,
梁勖
,
余吟山
,
方晓东
,
王宇
量子电子学报
doi:10.3969/J.issn.1007-5461.2010.05.002
193nm ArF准分子激光光刻技术已广泛应用于90 nm以下节点半导体量产.分析了近期发展用于改进准分子激光性能的关键技术:主振-功率再生放大(MOPRA)结构,主振-功率振荡(MOPO)结构,主动光谱带宽稳定技术,先进的气体管理技术.对光刻用准分子激光光源技术发展趋势进行了简要的讨论.
关键词:
激光技术
,
ArF准分子激光
,
光刻
,
双图形
