唐武
,
邓龙江
,
徐可为
稀有金属材料与工程
用原子力显微镜(AFM)研究了Al2O3基体上磁控溅射Au/NiCr/Ta薄膜的表面生长形貌以及表面粗糙度,并根据不同的沉积温度探讨了薄膜表面粗糙化机制,从能量角度分析了薄膜晶粒生长的表面能和晶界能交互作用效果.结果表明:磁控溅射的金属薄膜呈现柱状晶生长,随着沉积温度的升高,薄膜表面发生粗糙→光滑→粗糙的变化过程,表面能和晶界能的交互作用效果是导致薄膜表面粗糙度变化的根本原因.
关键词:
Au/NiCr/Ta
,
薄膜
,
表面粗糙度
,
表面能
,
晶界能
唐武
,
徐可为
,
王平
,
李弦
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2003.02.013
用磁控溅射方法在A12O3基片上沉积Au/NiCr/Ta多层金属膜,通过X射线衍射技术研究退火前后薄膜晶体取向的变化,Auger电子能谱分析退火前后薄膜沿深度方向的元素分布,四点探针测试退火前后薄膜表面电阻率.结果表明:退火后111Au与200Au衍射强度相对比值减小;薄膜表面电阻率异常增大;退火温度越高,薄膜表面电阻率越大.分析认为主要是由于Ni,Cr元素向金膜表层扩散导致薄膜表面电阻率异常增大.
关键词:
Au/NiCr/Ta
,
多层金属膜
,
电阻率
,
扩散
唐武
,
徐可为
,
王平
,
李弦
金属学报
用磁控溅射方法在Al2O3基片上沉积Au/NiCr/Ta多层金属膜, 通过X射线衍射技术研究退火前后薄膜晶体取向的变化, Auger电子能谱分析退火前后薄膜沿深度方向的元素分布, 四点探针测试退火前后薄膜电阻率. 结果表明: 退火后111Au与200Au衍射强茺相对比值减小; 薄膜表面电阻率异常增大; 退火湿度越高, 薄膜表面电阻率越大. 分析认为主要是由于Ni, Cr元素向金膜表层扩散导致薄膜表面电阻率异常增大.
关键词:
Au/NiCr/Ta
,
null
,
null
