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快速热处理对BaSrTiO3薄膜微结构的影响

张雪峰 , 李会容 , 武昭妤

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2009.09.005

采用射频溅射法在Si基片上制备BaSrTiO3(BST)薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜(AFM)研究了快速热处理温度和时间对BaSrTiO3薄膜微结构的影响.结果表明:BST薄膜的衍射峰强度和结晶度随退火温度的升高而提高.随退火温度的升高,BST薄膜的表面粗糙度经历先降低后增大的过程,而BST薄膜的晶粒尺寸单调减小.当退火温度为700℃时,随退火时间的增加,BST薄膜的晶粒尺寸几乎不发生变化,而表面粗糙度单调减小.

关键词: BaSrTiO3薄膜 , 晶化 , 快速热处理 , XRD , AFM

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