刘晓茹
,
李建军
,
刘玮
,
刘芳芳
,
敖建平
,
孙云
,
周志强
,
张毅
人工晶体学报
无镉材料Zn(O,S)因其带隙宽且可调节、无毒无害等优点被作为缓冲层材料重点研究,通过化学水浴法制备Zn(O,S)薄膜,研究了沉积时间的不同(20~35 min)对Zn(O,S)薄膜的成分、结构特性、光学性能及形貌的影响.通过XRD测试可知,水浴法制备的Zn(O,S)薄膜为非晶态.通过透反射谱测试可知,薄膜的光学透过率较高(>80%).通过表面形貌测试可知,30 min时Zn(O,S)薄膜为致密均匀的小颗粒.将Zn(O,S)薄膜应用在CZTSe电池中,在30 min时获得较高器件转换效率5.37%.
关键词:
无镉缓冲层
,
化学水浴法
,
Zn(O,S)
,
CZTSe薄膜电池
,
沉积时间
