臧春雨
,
曹望和
,
石春山
材料导报
介绍了半导体制造业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料.介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势.
关键词:
半导体制造业
,
157nm紫外光刻技术
,
CaF2晶体
,
双折射
甄西合
,
任绍霞
,
史达威
,
彭明林
,
刘晓阳
,
葛云程
人工晶体学报
通过化学处理提纯晶体原料,采用模拟软件设计合理的温场结构,在系统实验优化晶体生长工艺的基础上,采用改进的坩埚下降生长方法(布里奇曼法)成功地生长出直径300 mm的CaF2晶体.CaF2晶体的透过率在0.15～8.3 μm波长范围内超过80%,最高透过率约为95%.
关键词:
CaF2晶体
,
坩埚下降法
,
透过率
