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掺杂钨丝电沉积铬的工艺研究

严敏杰

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.06.019

为了研究掺杂钨丝(真空镀铬加热元件)表面电解沉积一定厚度(≥100μm)金属铬的工艺,详细考察了不同温度、电流密度、沉积时间等对镀层的影响,并对镀层进行了性能测试.结果表明,最佳工艺条件为:铬酐150～180g/L,硫酸1.5～1.8g/L,稀土(La~(3+))添加剂0.5～1.5g/L,温度为55℃,电流密度为8～10A/dm~2,电镀时间3h.此工艺条件下所得镀层光亮,色泽好,厚度可达100μm,且镀层耐蚀性好,结合力高.

关键词: 电沉积 , 铬 , 掺杂钨丝 , 工艺参数 , 耐蚀性 , CASS试验

Influence of Cr, Mn and Mo Addition on Structure and Properties of V Microalloyed Medium Carbon Steels

材料科学技术（英）

关键词: 力学性能测试 , V微合金化 , 中碳结构钢 , 中碳钢 , 针状铁素体 , 铬 , 奥氏体化温度 , 锰