刘鹏强
,
王茺
,
周曦
,
杨杰
,
杨宇
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.05.012
采用离子束溅射技术,通过改变诱导量子点形成的C层生长温度,在n型Si(100)衬底上自组装生长了一系列Ge量子点。利用 AFM和 Raman光谱对样品的表面形貌和结构进行了表征。实验结果表明,当C层的温度从600℃升高到700℃时,Ge 量子点的密度逐渐降低,且结晶性变差；此时,量子点中的 Si 组分升高。当C层的生长温度从700℃升高到800℃过程中,Ge量子点的密度逐渐增大,结晶性也有所改善；此时,量子点中的Si含量降低。
关键词:
离子束溅射
,
Ge量子点
,
扩散
,
C诱导
