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王天生 , 于栋利
金属学报
用氮离子束分别原位溅射Ti和石墨靶的方法制备了CNx/TiNy多层膜. 用X射线光电子谱分析CNx层中C和N的键合状态, 用透射电镜观察薄膜中的相形貌, 用电子衍射和X射线衍射的方法分析相的结构. 结果表明, CNx层中主要有N-sp^2C和N-sp^3C两种键合状态, 薄膜中观察到的C-N化合物尺寸为10-60nm的晶体颗粒, 其衍射数据可用立方C3N4结构标定, 证实了该薄膜中存在立方C3N4化合物.
关键词: C-N化合物 , null