李伟力
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郑晓航
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周庚衡
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薛宗伟
材料科学与工艺
为了揭示偏压对溅射态Fe-N薄膜磁学行为的影响规律及机理,采用直流磁控溅射工艺在不同偏压下制备了Fe-N薄膜.利用掠入射X射线衍射、小角X射线散射技术和振动样品磁强计研究了薄膜的相结构、厚度、表面粗糙度以及磁性能.结果表明,增加偏压有利于薄膜中非晶的形成,且随着偏压的增大,薄膜的厚度增加,表面粗糙度降低.Fe-N薄膜的磁性能表明,随着偏压的增加,薄膜的饱和磁化强度和矫顽力均有不同程度的减小.偏压的增加导致Fe-N薄膜由晶态向非晶态转变,从而引起磁性能的改变.
关键词:
Fe-N薄膜
,
偏压
,
膜厚
,
表面粗糙度
,
磁性能
李洪明
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周剑平
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顾有松
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常香荣
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赵春生
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徐秀英
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田中卓
金属功能材料
doi:10.3969/j.issn.1005-8192.2002.05.004
本文报道了采用RF磁控溅射制备出了高性能的Fe-N薄膜,膜厚约200nm,磁场热处理后薄膜中含有α′和少量γ′,具有优质的软磁性能,饱和磁化强度2.4T,高于纯铁的,矫顽力小于80A/m,2～10MHz下的磁导率为1500.然后提出一个模型,合理的解释了磁场热处理后薄膜表面的各向异性现象,包括不同方向的磁滞回线,剩磁比,矫顽力等.
关键词:
Fe-N薄膜
,
磁学性能
,
各向异性模型
李丹
,
张静
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雷牧云
,
田中卓
,
潘峰
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.02.007
用RF磁控溅射方法,在高功率下制备厚度为2μm的薄膜,当N含量在5.9～8.5%原子分数范围内,形成α′+α″相时,4πMs=2.2T,Hc=58.6A/m,可以满足针对高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.用该方法在不同的本底真空度下制备Fe-N薄膜,发现较高真空下比较低真空下制备的Fe-N薄膜磁学性能要好.P=1000W时,较高真空下制备的Fe-N薄膜的矫顽力为34.8A/m,较低真空下制备的Fe-N薄膜的矫顽力为58.6A/m.AFM测试表明,在功率条件相同情况下,较高真空下制备的Fe-N薄膜表面光滑、平整、起伏小、薄膜致密;而较低真空下制备的Fe-N薄膜,表面粗糙、起伏大、薄膜较疏松、不均匀.
关键词:
Fe-N薄膜
,
矫顽力
,
RF磁控溅射
